專利名稱：平板玻璃基板的減薄方法及裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種平面顯示器用玻璃基板減薄技術(shù)，特別涉及一種平板玻 璃基板的減薄方法及裝置。
背景技術(shù)：
隨著平面顯示技術(shù)的發(fā)展，薄型化的平面顯示器快速成為技術(shù)和市場的發(fā)展主流。平面顯示器包括液晶顯示器(LCD)、等離子顯示器(PDP)、有機 電致發(fā)光顯示器(0LED)等。在這些平面顯示器中，顯示用玻璃基板作為核 心部件，其薄型化是平面顯示器產(chǎn)品實現(xiàn)薄型化的核心技術(shù)。目前，平面顯示器的玻璃基板厚度最薄只能到0. 5mm，而平面顯示器產(chǎn) 品要求的玻璃基板厚度已經(jīng)達到0. 3mm甚至更薄，由此便產(chǎn)生了玻璃基板減 薄技術(shù)?，F(xiàn)有技術(shù)主要是采用物理或化學(xué)方法將已成盒后的玻璃基板去除其 中一層而實現(xiàn)玻璃基板的減薄。物理方法即機械研磨，其生產(chǎn)效率低、良品 率低;化學(xué)方法即化學(xué)蝕刻，該方法蝕刻出來的玻璃基板能達到厚度均勻、表 面效果良好的要求，并可以提高生產(chǎn)效率，更適合于量產(chǎn)，但其具體方法及裝 置卻未見公開。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種平板玻璃基板的減薄方法及裝置，有效解決現(xiàn) 有技術(shù)玻璃基板減薄過程中蝕刻不均勻、生產(chǎn)批量小，生產(chǎn)效率低等技術(shù)缺 陷。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種平板玻璃基板的減薄裝置，包括藥劑配比槽，用于混配和溫度處理蝕刻液；蝕刻槽，用于采用鼓泡方式和循環(huán)方式蝕刻玻璃基板，與所述藥劑配比槽相連接；至少一個暫存槽，用于暫存并沉淀蝕刻殘液，與所述蝕刻槽和藥劑配 比槽相連4妄。為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明還提供了 一種平板玻璃基板的減薄方法， 包括藥劑配比槽進行蝕刻液的混配和溫度處理； 蝕刻槽快速才由入所述蝕刻液；玻璃基板放入所述蝕刻槽內(nèi)，所述蝕刻液采用鼓泡方式和自循環(huán)方式 蝕刻所述玻璃基板；將蝕刻完成后的玻璃基板移出所述蝕刻槽后，蝕刻殘液排放到暫存槽 暫存并沉淀；完成沉淀的蝕刻殘液進入所述藥劑配比槽，重新進行蝕刻液的混配和 溫度處理。其中蝕刻液采用循環(huán)流量0~ 150L/min、鼓泡壓力0 ~ 0. 5MPa、蝕刻溫度 10 ~ 4(TC、蝕刻溫度對應(yīng)的蝕刻速率為4 ~ 15,/min，蝕刻所述玻璃基板。本發(fā)明提供了一種平板玻璃基板的減薄方法及裝置，通過采用藥劑循環(huán) 及鼓泡的蝕刻方法，可以實現(xiàn)玻璃基板的均勻蝕刻，并達到批量生產(chǎn)的目的， 以提供薄型玻璃基板產(chǎn)品，并提高良品率及量產(chǎn)性。下面通過具體實施例并結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步的詳細描述。
圖1為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄方法實施例一的流程示意圖； 圖2為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄方法實施例二的流程示意圖； 圖3為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄裝置實施例一的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄裝置實施例一的另一結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為本發(fā)明減薄后的玻璃基板示意圖。
具體實施方式
本發(fā)明的技術(shù)方案借鑒了普通玻璃清洗及玻璃圖案雕刻等的工藝方法， 通過采用在蝕刻槽內(nèi)使用循環(huán)蝕刻液進行蝕刻的方法及配套蝕刻裝置，蝕刻 玻璃基板，使得減薄后的玻璃基板，達到薄型化平面顯示用玻璃基板的技術(shù) 要求。如圖l所示，為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄方法實施例一的流程示意圖。 包括如下步驟步驟101、藥劑配比槽進行蝕刻液的混配和溫度處理； 步驟102、蝕刻槽快速抽入蝕刻液；步驟103、玻璃基板放入蝕刻槽內(nèi)，蝕刻液釆用鼓泡方式和自循環(huán)方 式蝕刻玻璃基板；將玻璃基板放入蝕刻槽內(nèi)，其中的蝕刻液通過鼓泡和自循環(huán)的方式， 即從蝕刻槽頂部注入蝕刻液和底部抽出蝕刻液的自循環(huán)方式，使蝕刻槽內(nèi) 的蝕刻液均勻，對玻璃基板起到均勻蝕刻的作用；步驟104、將蝕刻完成后的玻璃基板移出蝕刻槽后，蝕刻殘液排放到 暫存槽暫存并沉淀；蝕刻槽內(nèi)的蝕刻殘液排放到暫存槽內(nèi)暫存，并進行沉淀；步驟105、完成沉淀的蝕刻殘液進入藥劑配比槽，重新進行蝕刻液的 混配和溫度處理。沉淀好的蝕刻殘液重新進入藥劑配比槽，進行混配和溫度處理，再次作 為蝕刻液對J皮璃進4于蝕刻。在玻璃基板進入蝕刻槽之前，還應(yīng)對玻璃基板進行清洗；將玻璃基板從 蝕刻槽中取出后，也要進行清洗和干燥，最后完成玻璃的蝕刻，以達到將玻璃基板減薄的目的。上述步驟流程具體為先將要進行蝕刻的玻璃基板清洗干凈；采用循環(huán) 配比的蝕刻液對玻璃基板進行蝕刻，該蝕刻液在一次蝕刻多塊玻璃基板時自 循環(huán)流動，且蝕刻槽內(nèi)還有鼓泡操作，來保持藥劑的均勻性，在批量生產(chǎn)時， 即一次蝕刻了多塊玻璃基板后，再次蝕刻時將更換蝕刻液；對完成蝕刻減薄 后的玻璃基板進行第二次清洗；清洗后再進行干燥，可用風刀進行吹干。本實施例提供的平板玻璃基板的減薄方法流程，通過蝕刻技術(shù)，可以實 現(xiàn)用于平面顯示器的玻璃基板的薄型化；采用循環(huán)配比的蝕刻液，即可充分 利用蝕刻液，又可實現(xiàn)薄型玻璃基板的批量生產(chǎn)，并且成品率高。如圖2所示，為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄方法實施例二的流程示意圖。 包括如下步驟步驟201、藥劑配比槽進行蝕刻液的混配和溫度處理；步驟202、蝕刻槽快速抽入蝕刻液；步驟203、將玻璃基板進行一次清洗；步驟204、玻璃基板放入蝕刻槽內(nèi)，蝕刻液經(jīng)至少一個進液口和至少 一個抽液口在蝕刻槽內(nèi)自循環(huán)，并對蝕刻液進行鼓泡操作，來對玻璃基板 進行蝕刻；該步驟中，蝕刻液經(jīng)至少一個進液口和至少一個抽液口在蝕刻槽內(nèi)自 循環(huán)，使蝕刻液的藥液濃度可以保持均勻分布；為了進一步保證藥液可以 均勻遍布玻璃基板表面，以對玻璃基板進行均勻蝕刻，還要對蝕刻液采取 鼓泡操作，蝕刻槽內(nèi)的鼓泡氣體可以使蝕刻液均勻流動，并及時去除玻璃 基板表面生成物，鼓泡壓力的范圍可在(0-0. 5 ) MPa之間；在利用鼓泡和自循環(huán)方式蝕刻玻璃基板的過程中，蝕刻液的快速流動 不可避免會帶來熱量，使得蝕刻液溫度升高。可采用多種降低蝕刻液溫度 的辦法，使得蝕刻液維持在已設(shè)定的蝕刻溫度的± 0. 5'C的范圍內(nèi)，已設(shè) 定的蝕刻溫度可為10-4(TC范圍內(nèi)的任一溫度值；為了滿足量產(chǎn)和蝕刻果要求，蝕刻速率控制在4-15pm/min范圍內(nèi)；步驟205 、將蝕刻完成后的玻璃基板移出蝕刻槽后，蝕刻殘液排放到暫存槽暫存并沉淀；設(shè)置一藥劑暫存槽用于沉淀排出的蝕刻液，沉淀后以備下次使用； 步驟206、完成沉淀的蝕刻殘液進入藥劑配比槽，重新進行蝕刻液的混配和溫度處理；在將藥劑泵入蝕刻槽內(nèi)之前，要將蝕刻液配制好，將沉淀后的剩余蝕 刻液裝入藥劑配制槽中，再重新配制，使其恢復(fù)濃度，泵入玻璃基板所置 的蝕刻槽內(nèi)，可以節(jié)省藥劑，使藥劑得到循環(huán)重復(fù)利用，并能夠批量的不 間斷的放入需要進行蝕刻的玻璃基板，達到連續(xù)蝕刻的目的。所述循環(huán)蝕 刻液的循環(huán)流量在0-150L/min范圍內(nèi)；步驟207、將玻璃基板進行二次清洗；步驟208、對進行二次清洗的玻璃基板進行干燥；步驟209、對干燥后的玻璃基板進行拋光；步驟210、對進行拋光的玻璃基板進行三次清洗。本實施例提供的平板玻璃基板的減薄方法流程，通過外循環(huán)沉淀進行酸 液處理，采用自循環(huán)、鼓泡的方式對玻璃基板進行蝕刻，既可充分利用蝕刻 液，又可實現(xiàn)薄型玻璃基板的批量生產(chǎn)，并且效果良好，成品率高。對于蝕 刻后的產(chǎn)品，還需要進一步檢驗厚度、厚度均勻度和表面效果，以確認蝕刻 減薄目的是否達到；玻璃基板蝕刻前厚度差異指標一般為± 0. 05隱以下，厚 度均勻性一般為5%以下，且表面上無可視霧化、劃痕、凹凸點等瑕瘋，對于 蝕刻后的玻璃基板，厚度、厚度均勻度及表面效果也一定要滿足上述指標要 求，對于表面有瑕瘋的產(chǎn)品就要進一步進行拋光處理后去除瑕瘋，達到蝕刻 前的產(chǎn)品指標。如圖3所示，為本發(fā)明平板玻璃基板的減薄裝置實施例一的結(jié)構(gòu)示意 圖。具體包括藥劑配比槽1,用于混配和溫度處理蝕刻液；蝕刻槽2，用于采用鼓泡方式和循環(huán)方式蝕刻玻璃基板，與藥劑配比槽l相連接；至 少一個暫存槽，用于暫存并沉淀蝕刻殘液，與蝕刻槽2和藥劑配比槽1相 連接。首先，蝕刻液在藥劑配比槽內(nèi)進行混配和溫度處理；配好的蝕刻液被 抽入蝕刻槽2中，將玻璃基板放入蝕刻槽2中，采用鼓泡和蝕刻液循環(huán)的 方式對玻璃基板進行蝕刻；蝕刻后將玻璃基板取出，蝕刻液倒入暫存槽進 行暫存并沉淀，以備下次蝕刻玻璃基板時，重新配比并使用；該暫存槽可 以為一個以上，如圖3中所示，設(shè)置兩個暫存槽，用于分別沉淀蝕刻殘液， 在將一次蝕刻后的蝕刻殘液倒入暫存槽31進行沉淀時，可用已沉淀過的 暫存槽32中的蝕刻殘液進行重新配比，等再次用過該重新配比的蝕刻液 后，再將其倒回暫存槽32，使用暫存槽31沉淀過的蝕刻殘液進行重新配 比。如前所述，通過蝕刻液不斷的循環(huán)配比，可以不間斷的對玻璃基板進 行蝕刻，實現(xiàn)批量生產(chǎn)。在上述平板玻璃基板的減薄裝置的實施例一中，如圖4所示，蝕刻槽 2還具體包括有至少一個進液口 21和至少一個抽液口 22,用于注入和 排出蝕刻液，為蝕刻液在蝕刻槽2內(nèi)自循環(huán)蝕刻玻璃基板所用；鼓泡板23, 用于產(chǎn)生均勻鼓泡氣體，該鼓泡氣體可為高壓氣體，鼓泡氣體可以使得蝕 刻液更加均勻的流動；制冷盤管24，用于降低蝕刻玻璃基板時的蝕刻溫度， 使蝕刻溫度控制在土0.5。C范圍內(nèi)，該制冷盤管24可纏繞于蝕刻槽2的四壁， 管內(nèi)流動著循環(huán)制冷液體，在圖4中未標示出。該蝕刻槽2還可以包括有槽頂蓋25,用于密封蝕刻槽2;內(nèi)排風管 26，用于排出蝕刻槽內(nèi)蝕刻液揮發(fā)氣體。由于蝕刻液在對玻璃基板進行蝕 刻的過程中，會反應(yīng)并揮發(fā)出某些有害氣體，所以蝕刻槽2頂部加一槽頂 蓋25進行密封；通常情況下，槽頂蓋25的密封效果并不是很好，并且在 放入玻璃基板時要打開槽頂蓋25，有害氣體就會大量的散發(fā)到空氣中，因 此，在本發(fā)明的實施例中，蝕刻槽2靠近頂部的地方還設(shè)置了一個內(nèi)排風管26,可以在蝕刻液對玻璃基板進行蝕刻的過程中盡快的排出蝕刻槽2 內(nèi)的有害氣體，以免對人體造成損傷。該平板玻璃基板的減薄裝置還包括有第一清洗槽4，用于對未進行 蝕刻的玻璃基板進行一次清洗；第二清洗槽5，用于對蝕刻后的玻璃基板 進行二次清洗；干燥槽6,用于對進行二次清洗的玻璃基板進行干燥；拋 光裝置7,用于對干燥后的玻璃基板進行拋光；第三清洗槽8,用于對進 行拋光的玻璃基板進行第三次清洗。本實施例中，釆用的藥劑配比槽l、蝕刻槽2及暫存槽31、暫存槽32, 利用循環(huán)、鼓泡的方式對玻璃基板進行蝕刻，使得該蝕刻槽內(nèi)的蝕刻液可以 循環(huán)使用，從而可使蝕刻玻璃的效果好，可以充分利用蝕刻液。并且在蝕刻 槽的頂部加上了內(nèi)排風管裝置，可以加快有害氣體的排出。最后通過清洗槽、 拋光裝置等對蝕刻后的玻璃基板加以清洗、拋光，可實現(xiàn)薄型玻璃基板的批 量生產(chǎn)，且成品率高。利用上述平板玻璃基板的減薄方法及裝置，可得到如圖5所示的減薄后 的玻璃基板。該平板玻璃基板的減薄方法及裝置，完全可以用于量產(chǎn)化的平 板顯示器用玻璃基板的減薄，可將玻璃基板厚度減薄至0. 25mm,且表面效果 良好。最后應(yīng)說明的是以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其 限制；盡管參照前述實施例對本發(fā)明進行了詳細的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員應(yīng)當理解其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改，或 者對其中部分技術(shù)特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技 術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1、一種平板玻璃基板的減薄裝置，其特征在于包括藥劑配比槽，用于混配和溫度處理蝕刻液；蝕刻槽，用于采用鼓泡方式和循環(huán)方式蝕刻玻璃基板，與所述藥劑配比槽相連接；至少一個暫存槽，用于暫存并沉淀蝕刻殘液，與所述蝕刻槽和藥劑配比槽相連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的平板玻璃基板的減薄裝置，其特征在于所述 蝕刻槽包括至少一個進液口和至少一個抽液口 ，用于所述蝕刻液在蝕刻槽中自循環(huán)；鼓泡板，用于產(chǎn)生均勻鼓泡氣體，使所述蝕刻液均勻流動； 制冷盤管，用于降低蝕刻所述玻璃基板時的蝕刻溫度，使蝕刻溫度的 變化在土0.5。C范圍內(nèi)。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的平板玻璃基板的減薄裝置，其特征在于 所述蝕刻槽還包括槽頂蓋，用于密封所述蝕刻槽。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的平板玻璃基板的減薄裝置，其特征在于所述 蝕刻槽還包括內(nèi)排風管，用于排出所述蝕刻槽內(nèi)蝕刻液揮發(fā)氣體。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l、 2或4所述的平板玻璃基板的減薄裝置，其特征 在于還包括第 一清洗槽，用于對未進行蝕刻的玻璃基板進行一次清洗； 第二清洗槽，用于對蝕刻后的玻璃基板進行二次清洗；干燥槽，用于對進行二次清洗的所述玻璃基板進行干燥。
6、 根據(jù)權(quán)利要求5所述的平板玻璃基板的減薄裝置，其特征在于還包括拋光裝置，用于對干燥后的所述玻璃基板進行拋光；第三清洗槽，用于對進行拋光的所述玻璃基板進行三次清洗。
7、 一種平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于包括 藥劑配比槽進4于蝕刻液的混配和溫度處理； 蝕刻槽快速抽入所述蝕刻液；玻璃基板放入所述蝕刻槽內(nèi)，所述蝕刻液采用鼓泡方式和自循環(huán)方式 蝕刻所述玻璃基板；將蝕刻完成后的玻璃基板移出所述蝕刻槽后，蝕刻殘液排放到暫存槽 暫存并沉淀；完成沉淀的蝕刻殘液進入所述藥劑配比槽，重新進行蝕刻液的混配和 溫度處理。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于，所 述蝕刻液采用鼓泡方式和自循環(huán)方式蝕刻所述玻璃基板。具體為所述蝕 刻液采用循環(huán)流量為0~150L/min，鼓泡壓力為0 ~ 0. 5MPa,蝕刻所述3皮璃 基板。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于，所 述蝕刻液采用鼓泡方式和自循環(huán)方式蝕刻所述玻璃基板中，蝕刻溫度為 10~40°C、蝕刻速率4 ~ 15同/min。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于， 在所述玻璃基板放入所述蝕刻槽內(nèi)之前還包括對所述玻璃基板進行一次 清洗。
11、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于， 在所述蝕刻完成后的玻璃基板移出所述蝕刻槽之后還包括對所述玻璃基 板進行二次清洗，并干燥。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的平板玻璃基板的減薄方法，其特征在于， 在所述對所述玻璃基板進行二次清洗，并干燥之后還包括對所述玻璃基 板拋光，并清洗。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種平板玻璃基板的減薄方法及裝置，首先，蝕刻液在藥劑配比槽內(nèi)進行混配和溫度處理；配好的蝕刻液被快速抽入蝕刻槽中，將玻璃基板放入蝕刻槽中，采用鼓泡和蝕刻液自循環(huán)的方式對玻璃基板進行蝕刻；蝕刻后將玻璃基板取出，蝕刻液快速倒入暫存槽進行暫存并沉淀，以備下次蝕刻玻璃基板時，重新配比并使用；對完成蝕刻減薄后的玻璃基板進行清洗、干燥，并進行拋光。本發(fā)明提供了一種平板玻璃基板的減薄方法及裝置，通過采用藥劑循環(huán)及鼓泡的蝕刻方法，可以實現(xiàn)玻璃基板的均勻蝕刻，并達到批量生產(chǎn)的目的，以提供薄型玻璃基板產(chǎn)品，并提高良品率及量產(chǎn)性。
文檔編號C03C15/00GK101234853SQ20081010120
公開日2008年8月6日 申請日期2008年2月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月29日
發(fā)明者史華威, 李曉軍, 王乾旭, 王道鵬 申請人:京東方科技集團股份有限公司;京東方(河北)移動顯示技術(shù)有限公司;京東方現(xiàn)代(北京)顯示技術(shù)有限公司