專(zhuān)利名稱(chēng)：：雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃及工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種鍍有雙銀層、復(fù)合電介質(zhì)層及復(fù)合吸收層的低反射率和高效遮陽(yáng)低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
：-市場(chǎng)上現(xiàn)有鍍有雙銀層的低輻射鍍膜玻璃，但普遍高透遮陽(yáng)系數(shù)較高，而中低透透射的玻璃能滿(mǎn)足低遮陽(yáng)系數(shù)的要求但反射率又偏高，故尚沒(méi)有同時(shí)滿(mǎn)足低遮陽(yáng)系數(shù)和低反射率的雙層銀的鍍膜玻璃。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明目的，為了能同時(shí)滿(mǎn)足低遮陽(yáng)系數(shù)和低反射率的雙層銀的鍍膜玻璃，提供一種雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃及生產(chǎn)工藝；該玻璃結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為玻璃/電介質(zhì)層(1)/復(fù)合吸收層(1)/銀層(1)/保護(hù)層(1)/復(fù)合電介質(zhì)層(1)/銀層(2)/保護(hù)層(2)池介質(zhì)層(2);其中電介質(zhì)層(O為Sn02，膜層厚度為35nm40nm;銀層(1)、(2)為Ag;膜層厚度為10nm12nm;復(fù)合吸收層(1)為NiCr/陶瓷ZnOx保護(hù)層(1)、(2)為NiCr;膜層厚度為12nm14nm;復(fù)合電介質(zhì)層(1)為T(mén)i(VSn02/TiOx/ZnO結(jié)構(gòu)；膜層厚度為100nm110nm;電介質(zhì)層(2)為Si3N4;膜層厚度為35nm40nm;本發(fā)明采用真空磁控濺射鍍膜工藝，各膜層的鍍制工藝是電介質(zhì)層(1)，通過(guò)交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射；復(fù)合吸收層(1),通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20，并在鎳鉻合金上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅耙濺射的ZnOx層，其氬氧比例保持在20:1.5;銀層(1)、(2)，通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射；保護(hù)層(1)、(2)，通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20;復(fù)合電介質(zhì)層(1)，通過(guò)交流陰極的氧化鈦靶、錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射；電介質(zhì)層(2)，通過(guò)交流陰極的硅鋁合金靶在氮?dú)宸諊袨R射，硅鋁合金之比為Si:Al=90:10。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)是，具有紅外線(xiàn)反射能力強(qiáng)，膜層表面輻射率低遮陽(yáng)系數(shù)低且反射率低等優(yōu)良特性的玻璃。與傳統(tǒng)的低輻射雙銀玻璃相比，由于中間鍍制了有復(fù)合電介質(zhì)層間隔的兩層銀層，使得輻射率大大降低，并且玻璃的遮陽(yáng)性能又有更大提高，而且由于復(fù)合了吸收層，使得產(chǎn)品保留了本身低輻射率的性能上，吸收率得到極大提高，可以按客戶(hù)要求在同時(shí)滿(mǎn)足中透射率和低遮陽(yáng)系數(shù)的前提下，有效抑制反射率，使其能符合目前很多城市已出臺(tái)的限制玻璃的可見(jiàn)光反射率法規(guī)，避免了常見(jiàn)的低遮陽(yáng)系數(shù)和低透射高反射之間的矛盾。低反射率和高效遮陽(yáng)低輻射鍍膜玻璃的主要用途為建筑幕墻、用窗玻璃，可以達(dá)到降低玻璃表面輻射率，提高玻璃隔熱性能。在獲得高遮陽(yáng)性能的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光的中低透過(guò)率和中低反射率，同時(shí)顏色中性，外觀(guān)效果自然柔和，具有廣闊的應(yīng)用范圍和市場(chǎng)前景。復(fù)合電介質(zhì)層(l)采用TiOx/Sn02/TiOx/ZnO結(jié)構(gòu)，是因?yàn)門(mén)iOx有折射率高(折射率n=2.352.65),吸收率低的特點(diǎn)，使膜層獲得高的透射值；Sn02的折射率較TiOx的折射率低，這樣，他們之間由于半波反射的原理，可以使得透射值有很大的提高。TiOx/Sn02/TiOx連續(xù)鍍制，構(gòu)成的復(fù)合膜層可以極大的提高透射率，使得上層的銀層(2)為滿(mǎn)足降低輻射率的要求而厚度增加時(shí)，整體膜層仍然保持較高的透射率。通過(guò)調(diào)整各膜層的厚度和互相之間的比例，甚至是工藝氣體的分布比例，可以方便的把產(chǎn)品的透射率在60%~80%之間進(jìn)行調(diào)節(jié)。同時(shí)，光在多層膜之間反射時(shí)，由于干涉原理，只要合理調(diào)節(jié)和分配各膜層厚度，就可以較便利得控制膜層顏色，使最終整體膜層的顏色中性。ZnO層的作用是降低膜層的輻射率。這是由于作為復(fù)合電介質(zhì)層頂層的ZNO和Ag之間有較好的浸潤(rùn)性，使得同樣厚度的Ag層鍍?cè)赯nO上比直接鍍?cè)赥iOx上能達(dá)到更低的輻射率。數(shù)據(jù)表明在其他膜層結(jié)構(gòu)和厚度不變的情況下，單層鍍制90nm的Sn02后，膜層的總透射值為70%，而用TiOx/Sn02/TiOx/ZnO結(jié)構(gòu)取代單層Sn02結(jié)構(gòu)，鍍制相同厚度的復(fù)合電介質(zhì)層后，膜層總透射值可以達(dá)到近80%。而通過(guò)復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合吸收層、保護(hù)層的厚度氣體調(diào)節(jié)，可以輕而易舉的將透射值降至60以下。同時(shí)，因?yàn)镾nO2單層膜層在90mn左右變化時(shí)，最終膜層顏色透射色坐標(biāo)W值和玻璃面反射色坐標(biāo)M值相反變化，這樣，就很難使得產(chǎn)品的透射和反射顏色達(dá)到所需的中性顏色。使用TKVSnCVTi(VZnO結(jié)構(gòu)后，合理分配膜層厚度，可以使鍍膜玻璃的玻璃面顏色和透射顏色都呈中性。復(fù)合吸收層為NiCr/陶瓷ZnOx其中陶瓷ZnOx在氬氧氣氛圍中濺射得出的ZnOx膜層，其氬氧比例保持在20:1.5左右。輸入微量的氧氣目的是補(bǔ)充濺射過(guò)程中ZnOx圓靶在純氬狀態(tài)下濺射可能出現(xiàn)的失氧狀態(tài)，保持濺射下的ZnOx物質(zhì)單一穩(wěn)定。鎳鉻合金的作用是有效的降低產(chǎn)品的透射值并且降低其遮陽(yáng)系數(shù)，但單純鍍厚鎳鉻合金層以降低透射值和遮陽(yáng)系數(shù)的副作用是產(chǎn)生極高的反射值。為了達(dá)到低遮陽(yáng)低反射的效果，我們?cè)阱冩囥t合金層上鍍了ZnOx層，通過(guò)光譜的互相干涉作用，使得在保有原吸收率的前提下，反射率大幅度下降。通過(guò)不斷調(diào)整試驗(yàn)，利用NiCr/ZnOx復(fù)合吸收層在光譜中與其他層互相干涉所能起到的低反射中吸收的作用，有效的使得最終產(chǎn)品在保證原有的透射值和低遮陽(yáng)系數(shù)的基礎(chǔ)上降低了產(chǎn)品的反射率，使其能符合目前很多城市己出臺(tái)的限制玻璃的可見(jiàn)光反射率法規(guī)(即光污染問(wèn)題)。具體實(shí)施例方式本發(fā)明用平板玻璃雙端連續(xù)式鍍膜機(jī)，包括11個(gè)交流陰極，10個(gè)直流陰極，采用下表列出的工藝參數(shù)，使用8個(gè)交流雙靶，5個(gè)直流單靶，共13個(gè)靶位進(jìn)行生產(chǎn)，制出本發(fā)明低反射率和高效遮陽(yáng)低輻射鍍膜玻璃，其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下低反射率和高效遮陽(yáng)低輻射鍍膜玻璃耙位分布及工藝參數(shù)<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>用上述工藝參數(shù)制出的玻璃光學(xué)性能如下:玻璃可見(jiàn)光透過(guò)率T=60.0%可見(jiàn)光玻璃面反射率=14%可見(jiàn)光玻璃面色坐標(biāo)&*值=-1色坐標(biāo)15*值=-2.7可見(jiàn)光透射色坐標(biāo)&*值=-3.2色坐標(biāo)1)*值=3.1玻璃的輻射率e=0.031。？本發(fā)明制成中空玻璃間隔為12mm充空氣窗結(jié)構(gòu)，按照ISO10292標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定的數(shù)據(jù)如下可見(jiàn)光透過(guò)率T=54%可見(jiàn)光玻璃面反射率(Out)=16%可見(jiàn)光玻璃面反射率(In)=16%太陽(yáng)能透過(guò)率丁=30%太陽(yáng)能反射率(Out)=30%G-value=0.36遮陽(yáng)系數(shù)SC-0.41傳熱系數(shù)U=1.61W/m2K。權(quán)利要求1、一種雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于在玻璃基板鍍制多層膜層的結(jié)構(gòu)，各膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向外依次為玻璃/電介質(zhì)層(1)/復(fù)合吸收層(1)/銀層(1)/保護(hù)層(1)/復(fù)合電介質(zhì)層(1)/銀層(2)/保護(hù)層(2)/電介質(zhì)層(2)；其中電介質(zhì)層(1)為Sn02，膜層厚度為35nm～40nm；銀層(1)、(2)為Ag；膜層厚度為10nm～12nm；復(fù)合吸收層(1)為NiCr/陶瓷ZnOx；膜層厚度為12nm～14nm；保護(hù)層(1)、(2)為NiCr；膜層厚度為1nm～2nm；復(fù)合電介質(zhì)層(1)為T(mén)iOx/SnO2/TiOx/ZnO結(jié)構(gòu)；膜層厚度為100nm～110nm；；電介質(zhì)層(2)為Si3N4；膜層厚度為35nm～40nm。2、一種雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃鍍制工藝，其特征在于該玻璃采用真空磁控濺射鍍膜工藝。3、按權(quán)利要求2所述雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃鍍制工藝，其特征在于各膜層的鍍制工藝是-電介質(zhì)層(1)，通過(guò)交流陰極的錫靶在氧氬氛圍中濺射；復(fù)合吸收層(1)，通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20，并在鎳鉻合金上鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的ZnOx層，其氬氧比例保持在20:1.5;銀層(1)、(2)，通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射；保護(hù)層(1)、(2)，通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20;復(fù)合電介質(zhì)層(1)，通過(guò)交流陰極的氧化鈦靶、錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射；電介質(zhì)層(2),通過(guò)交流陰極的硅鋁合金靶在氮?dú)宸諊袨R射，硅鋁合金之比為Si:Al=90:10。全文摘要本發(fā)明提供一種雙銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的低反射高遮陽(yáng)的低輻射鍍膜玻璃及鍍制工藝，該玻自玻璃基板向外的結(jié)構(gòu)層依次為玻璃/電介質(zhì)層(1)/復(fù)合吸收層(1)/銀層(1)/保護(hù)層(1)/復(fù)合電介質(zhì)層(1)/銀層(2)/保護(hù)層(2)/電介質(zhì)層(2)；采用真空磁控濺射鍍膜工藝，優(yōu)點(diǎn)是，具有紅外線(xiàn)反射能力強(qiáng)，膜層表面輻射率低，在獲得高遮陽(yáng)性能的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光的中低透過(guò)率和中低反射率等優(yōu)良特性的玻璃。文檔編號(hào)C03C17/36GK101148329SQ200710045930公開(kāi)日2008年3月26日申請(qǐng)日期2007年9月13日優(yōu)先權(quán)日2007年9月13日發(fā)明者斌吳,孫大海,安吉申,李志軍,王茂良申請(qǐng)人:上海耀華皮爾金頓玻璃股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司