一種新型特效硅片清洗液的制作方法
【專(zhuān)利摘要】一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成：氟化銨7-10份、三羥乙基胺7-12份、陰離子活性劑5-8份、非離子表面活性劑3-5份、鹽酸3-4份、葡萄糖酸鈉10—15份和助洗劑15—17份，在清洗后，會(huì)在硅片表面生成一層保護(hù)膜，可提高硅片的抗污能力，同時(shí)去污力強(qiáng)，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清潔率，并且對(duì)環(huán)境無(wú)污染。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種新型特效硅片清洗液
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種清洗液，特別涉及一種新型特效硅片清洗液。
【背景技術(shù)】
[0002]清洗最為硅片的一個(gè)生產(chǎn)工序之一，清洗的好壞程度對(duì)硅片的使用性能有著很大的影響。清洗的主要目的是為了清洗掉切割過(guò)程中產(chǎn)生的沙粒，殘留的切削磨料、金屬離子及指紋等，使硅片表面達(dá)到無(wú)腐蝕、無(wú)氧化、無(wú)殘留等技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)的硅片清洗，由于各個(gè)方法不一樣，采用的清洗液也不一樣?，F(xiàn)有技術(shù)中的清洗液清洗效果較差，對(duì)于硅片表面的污潰難以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]針對(duì)上述問(wèn)題，本發(fā)明提出了一種新型特效硅片清洗液。
[0004]為解決以上技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供的技術(shù)方案是:
一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成:
氟化銨 7-10份三羥乙基胺 7-12份陰離子活性劑 5-8份非離子表面活性劑3-5份鹽酸3-4份葡萄糖酸鈉10 —15份助洗劑 15—17份。
[0005]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。
[0006]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。
[0007]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述助洗劑為氫氧化鈉。
[0008]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
[0009]一種新型特效硅片清洗液，其中，優(yōu)選的，由下列重量份的原料組分構(gòu)成:
氟化銨 9份
三羥乙基胺 10份陰離子活性劑 6份非離子表面活性劑4份鹽酸3份葡萄糖酸鈉12份助洗劑 15份。
[0010]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1.2:1.45比例混合而成。
[0011]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.5:1.4比例混合而成。
[0012]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述助洗劑為氫氧化鈉。
[0013]上述的一種新型特效硅片清洗液，其中，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
[0014]本發(fā)明的有益效果為:
本發(fā)明提供的一種新型特效硅片清洗液，配方簡(jiǎn)單易于操作，在清洗后，會(huì)在硅片表面生成一層保護(hù)膜，可提高硅片的抗污能力，同時(shí)去污力強(qiáng)，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清潔率，并且對(duì)環(huán)境無(wú)污染。
【具體實(shí)施方式】
[0015]實(shí)施例一
一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成:
氟化銨 9份三羥乙基胺 10份陰離子活性劑 6份非離子表面活性劑4份鹽酸3份葡萄糖酸鈉12份助洗劑 15份。
[0016]其中，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1.2:1.45比例混合而成，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.5:1.4比例混合而成，所述助洗劑為氫氧化鈉，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
[0017]實(shí)施例二
一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成:
氟化銨 7份三羥乙基胺 8份陰離子活性劑 6份非離子表面活性劑3份鹽酸4份葡萄糖酸鈉15份助洗劑 16份。
[0018]其中，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1.1:1.4比例混合而成，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.7:1.3比例混合而成，所述助洗劑為氫氧化鈉，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
[0019]實(shí)施例三
一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成:
氟化銨 9 三羥乙基胺 11 陰離子活性劑 I 非離子表面活性劑5份鹽酸3份葡萄糖酸鈉11份助洗劑 17份。
[0020]其中，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1.2:1.比例混合而成，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1.4-1.5比例混合而成，所述助洗劑為氫氧化鈉，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
[0021]一種新型特效硅片清洗液，配方簡(jiǎn)單易于操作，在清洗后，會(huì)在硅片表面生成一層保護(hù)膜，可提高硅片的抗污能力，同時(shí)去污力強(qiáng)，硅片的清洗速度快，提高了硅片清洗的清潔率，并且對(duì)環(huán)境無(wú)污染。
[0022]一種新型特效硅片清洗液，可以極大降低了切削液的表面張力，大大提高了切削液的流動(dòng)性和滲透性，同時(shí)在保證了切削液對(duì)磨料的潤(rùn)濕性的同時(shí)，大幅度提高了磨料的分散性，避免磨料團(tuán)聚結(jié)成塊對(duì)硅片造成損壞，不僅有利于提高硅片切割的成品率，同時(shí)使硅片切割成品率達(dá)到99%，而且可在硅片表面形成保護(hù)膜，使硅片更容易被清洗，總體上大大提高了切削液的潤(rùn)滑效果、耐磨特性及冷卻特性。
[0023]以上所述，僅為本發(fā)明較佳的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，由下列重量份的原料組分構(gòu)成: 氟化銨7-10份 三羥乙基胺7-12份 陰離子活性劑 5-8份 非離子表面活性劑3-5份 鹽酸 3-4份 葡萄糖酸鈉10 —15份 助洗劑15—17份。
2.如權(quán)利要求1所述的一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，優(yōu)選的，由下列重量份的原料組分構(gòu)成: 氟化銨9份 三羥乙基胺10份 陰離子活性劑 6份 非離子表面活性劑4份 鹽酸 3份 葡萄糖酸鈉12份 助洗劑15份。
3.如權(quán)利要求1所述的一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述陰離子活性劑為十二烷基磺酸鈉和十二烷基硫酸鈉按1-1.2:1.4-1.5比例混合而成。
4.如權(quán)利要求1所述的一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述非離子活性劑為烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚按1-1.7:1.3-1.5比例混合而成。
5.如權(quán)利要求1所述的一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述助洗劑為氫氧化鈉。
6.如權(quán)利要求1所述的一種新型特效硅片清洗液，其特征在于，所述的鹽酸為工業(yè)鹽酸。
【文檔編號(hào)】C11D3/60GK104498209SQ201410846914
【公開(kāi)日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月31日
【發(fā)明者】聶金根 申請(qǐng)人:鎮(zhèn)江市港南電子有限公司