清潔被污染的表面的清潔設(shè)備和方法
【專利摘要】本發(fā)明為清潔被污染的表面的清潔設(shè)備和方法。提供了清潔設(shè)備，其包括配置為以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流朝向被污染的表面的第一噴嘴。至少一個(gè)第二噴嘴配置為引導(dǎo)沖洗射流朝向該被污染的表面以從其去除清潔流體，其中以足以使清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)該沖洗射流。
【專利說明】清潔被污染的表面的清潔設(shè)備和方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本公開的領(lǐng)域一般地涉及清潔設(shè)備，并且更具體地涉及可用于清潔被污染的表面的蒸汽清潔頭。
【背景技術(shù)】
[0002]清潔操作一般用于改進(jìn)外觀美感和準(zhǔn)備用于進(jìn)一步處理的被污染的表面。用于清潔被污染的表面的傳統(tǒng)方法一般分為兩類，機(jī)械的和化學(xué)的。機(jī)械清潔一般包括用布或其它合適的材料物理地去除和/或收集污染物，和化學(xué)清潔一般涉及使用溶劑來分解污染物以便可以更容易地將其從被污染的表面去除。一般地，機(jī)械和化學(xué)清潔兩種方法可被同時(shí)使用以執(zhí)行期望的清潔操作。
[0003]關(guān)于清潔大的被污染的表面，用于去除污染物的一些已知的操作可包括最初施加清潔化學(xué)品到被污染的表面上并且允許清潔化學(xué)品保持在被污染的表面上預(yù)定的時(shí)間段從而分解該污染物。然后沖洗掉該化學(xué)品和分解的污染物。然而，這種清潔過程可產(chǎn)生可能處置費(fèi)用大的大量的化學(xué)品廢物。
[0004]在另一個(gè)已知的清潔操作中，將微纖維介質(zhì)附著至蒸汽清潔設(shè)備，以便當(dāng)將蒸汽傳遞到被污染的表面時(shí)，微纖維介質(zhì)可與其摩擦。該已知清潔操作一般不使用化學(xué)品或清潔劑以促進(jìn)清潔被污染的表面。然而，在至少一些已知的清潔操作中，僅使用蒸汽和機(jī)械摩擦可能不足以清潔或剝離被污染的表面。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]根據(jù)本公開的一方面，提供了清潔設(shè)備。該清潔設(shè)備包括第一噴嘴，其配置為以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流朝向被污染的表面。至少一個(gè)第二噴嘴，其配置為引導(dǎo)沖洗射流朝向被污染的表面以從其去除清潔流體，其中以足以使清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)該沖洗射流。
[0006]有利地，至少一個(gè)第二噴嘴配置為以等于或大于清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)沖洗射流。
[0007]有利地，該清潔設(shè)備進(jìn)一步包括多個(gè)第二噴嘴，其圍繞第一噴嘴沿圓周間隔開，以便所述多個(gè)第二噴嘴以足以使清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)沖洗射流朝向被污染的表面。
[0008]有利地，該清潔設(shè)備進(jìn)一步包括與所述第一噴嘴流體連通連接的清潔流體源，以及與所述至少一個(gè)第二噴嘴流體連通連接的沖洗流體源。
[0009]有利地，第一噴嘴配置為引導(dǎo)包括干蒸汽和至少一種清潔化學(xué)品的清潔射流。
[0010]優(yōu)選地，第一噴嘴配置為引導(dǎo)包括以重量計(jì)至少40%的干蒸汽的清潔射流。
[0011]有利地，至少一個(gè)第二噴嘴配置為引導(dǎo)包括濕蒸汽和濕蒸汽與至少一種溶劑的組合中的至少一個(gè)的沖洗射流。
[0012]優(yōu)選地，至少一個(gè)第二噴嘴配置為引導(dǎo)包括以重量計(jì)至少85%的濕蒸汽的沖洗射流。
[0013]有利地，第一噴嘴和所述至少一個(gè)第二噴嘴配置為同時(shí)引導(dǎo)清潔射流和沖洗射流朝向被污染的表面。
[0014]根據(jù)本公開的另一方面，提供了清潔系統(tǒng)。該清潔系統(tǒng)包括殼體，其包括容納在其中的清潔流體源和沖洗流體源。清潔頭連接到殼體。該清潔頭包括第一噴嘴，其配置為以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流朝向被污染的表面。至少一個(gè)第二噴嘴，其配置為引導(dǎo)沖洗射流朝向被污染的表面以從其去除清潔流體，其中以足以使清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力弓I導(dǎo)沖洗射流。
[0015]有利地，至少一個(gè)第二噴嘴配置為以等于或大于清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)沖洗射流。
[0016]有利地，該清潔系統(tǒng)進(jìn)一步包括至少一個(gè)軟管，其流體連通連接所述清潔頭與所述殼體。
[0017]有利地，清潔流體源包括蒸汽生成單元和清潔流體注射單元，并且其中所述沖洗流體源包括蒸汽生成單元和沖洗流體注射單元。
[0018]在本公開的又另一方面，提供了清潔被污染的表面的方法。該方法包括用第一噴嘴引導(dǎo)清潔射流朝向被污染的表面，以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)該清潔射流。用至少一個(gè)第二噴嘴引導(dǎo)沖洗射流朝向被污染的表面以從其去除清潔流體，以足以使清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)該沖洗射流。
[0019]有利地，引導(dǎo)沖洗射流進(jìn)一步包括以等于或大于清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)沖洗射流。
[0020]有利地，引導(dǎo)沖洗射流進(jìn)一步包括引導(dǎo)多個(gè)沖洗射流朝向被污染的表面，以便多個(gè)沖洗射流基本上外接清潔射流。
[0021]有利地，該方法進(jìn)一步包括同時(shí)引導(dǎo)清潔射流和沖洗射流朝向被污染的表面。
[0022]有利地，該方法進(jìn)一步包括用包含蒸汽生成單元和清潔流體注射單元的清潔流體源生成清潔流體，以及用包含蒸汽生成單元和沖洗流體注射單元的沖洗流體源生成沖洗流體。
[0023]有利地,生成清潔流體進(jìn)一步包括結(jié)合來自清潔流體注射單元的至少一種預(yù)定的清潔化學(xué)品和來自蒸汽生成單元的干蒸汽。
[0024]有利地，生成沖洗流體進(jìn)一步包括以下的至少一種:
[0025]用蒸汽生成單元生成濕蒸汽，以及結(jié)合來自沖洗流體注射單元的至少一種溶劑和來自蒸汽生成單元的濕蒸汽。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0026]圖1是可用于清潔被污染的表面的示例性清潔系統(tǒng)的透視圖。
[0027]圖2是可與在圖1中示出的清潔系統(tǒng)一起使用的示例性清潔頭的透視圖。
[0028]圖3是在圖2中示出的清潔頭的透視側(cè)視圖。
[0029]圖4是在圖2中示出的清潔頭的透視頂視圖。
[0030]圖5是可與圖1中示出的清潔系統(tǒng)一起使用的清潔被污染的表面的示例性方法的流程圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0031]本公開的至少一些執(zhí)行涉及同時(shí)進(jìn)行兩個(gè)動(dòng)作的基于蒸汽的表面清潔和剝離設(shè)備。在示例性執(zhí)行中，該設(shè)備通過去除污染物、從基板剝離涂層或用蒸汽和清潔化學(xué)溶液蝕刻清潔金屬和合金來清潔表面。該設(shè)備用水或水/溶劑沖洗溶液沖洗清潔的或剝離的基板。該設(shè)備可用作手動(dòng)操作或獨(dú)立的單元和/或自動(dòng)化機(jī)械或機(jī)器人組件的一部分。
[0032]在示例性執(zhí)行中，該設(shè)備包括用軟管連接到蒸汽生成器的清潔頭，以及單獨(dú)的水和化學(xué)品注射單元。該蒸汽生成器和水/化學(xué)品注射單元位于便攜式推車和/或運(yùn)載工具上，并且清潔頭包括單獨(dú)地連接到蒸汽生成器和單元的至少兩個(gè)蒸汽噴嘴。一個(gè)噴嘴從用于清潔/剝離被污染的表面的第一水/化學(xué)品注射單元引導(dǎo)蒸汽/化學(xué)品流。另一個(gè)噴嘴從用于沖洗清潔的/剝離的表面的第二水/化學(xué)品注射單元引導(dǎo)蒸汽/化學(xué)品流。因此，噴嘴的布置和從其引導(dǎo)的流促進(jìn)清潔被污染的表面并且去除在清潔/剝離過程期間使用的化學(xué)品。此外，清潔頭的設(shè)計(jì)并且更具體地是沖洗噴嘴的構(gòu)造有助于當(dāng)清潔流被從清潔噴嘴引導(dǎo)朝向被污染的表面時(shí)防止在清潔/剝離流中使用的化學(xué)品以空氣傳播污染周圍的區(qū)域。
[0033]圖1是示例性清潔系統(tǒng)100的透視圖。在示例性執(zhí)行中，清潔系統(tǒng)100包括殼體102、清潔頭200以及流體連通連接清潔頭200與殼體102的第一軟管110和第二軟管112。殼體102包括蒸汽生成單元104、清潔流體注射單元106以及沖洗流體注射單元108。蒸汽生成單元104和清潔流體注射單元106限定清潔流體源120，以及蒸汽生成單元104和沖洗流體注射單元108限定沖洗流體源140。因此，在示例性執(zhí)行中，第一軟管110與清潔流體源120流體連通連接并且從其引導(dǎo)清潔流體到清潔頭200，而第二軟管112與沖洗流體源140流體連通連接并且從其引導(dǎo)清潔流體到清潔頭200中。
[0034]在示例性執(zhí)行中，殼體102安裝到便攜式推車114和/或與便攜式推車114成為整體以便殼體102是可移動(dòng)的。更具體地，便攜式推車114包括手柄116和車輪118以便便攜式推車114和連接到其的殼體102可以被操作人員(未示出)選擇性地移動(dòng)。在可選的執(zhí)行中，殼體102可安裝到運(yùn)載工具上(未示出)或配置為安裝在但不限于生產(chǎn)設(shè)施、維護(hù)設(shè)施、維修設(shè)施或其任何合適的組合中的固定系統(tǒng)。此外，如上所提及的，清潔系統(tǒng)100可以操作為獨(dú)立的單元和/或自動(dòng)化機(jī)械或機(jī)器人組件(未示出)的一部分。
[0035]在示例性執(zhí)行中，清潔流體生成自清潔流體源120以便被清潔頭200使用。清潔流體源120通過結(jié)合來自蒸汽生成單元104的干蒸汽和來自清潔流體注射單元106的清潔溶液來生成清潔流體。更具體地，包含在清潔流體注射單元內(nèi)的清潔溶液包括水和至少一種預(yù)定的清潔化學(xué)品。在示例性執(zhí)行中，該清潔流體包括以重量計(jì)至少大約40%的干蒸汽，其余部分是來自清潔流體注射單元106的清潔溶液。如本文所用，術(shù)語“干蒸汽”指具有以重量百分比計(jì)小于大約5%的液態(tài)水的蒸汽。
[0036]預(yù)定的清潔化學(xué)品可以是使清潔系統(tǒng)100如本文所述起作用的任何合適的清潔化學(xué)品。例如，合適的清潔化學(xué)品包括但不限于醇、氫氧化物、清潔劑、過氧化物和表面活性劑。
[0037]在示例性執(zhí)行中，沖洗流體生成自沖洗流體源140以便被清潔頭200使用。在一個(gè)執(zhí)行中，該沖洗流體是通過蒸汽生成單元104生成的大約100%的濕蒸汽。在另一個(gè)執(zhí)行中，沖洗流體源140通過結(jié)合來自蒸汽生成單元104的濕蒸汽和來自沖洗流體注射單元108的沖洗溶液來生成沖洗流體。在示例性執(zhí)行中，包含在沖洗流體注射單元內(nèi)的沖洗溶液包括水和至少一種預(yù)定的沖洗溶劑。在示例性執(zhí)行中，該沖洗流體包括以重量計(jì)至少大約85%的濕蒸汽，其余部分是來自沖洗流體注射單元108的沖洗溶液。如本文所用，術(shù)語“濕蒸汽”指具有以重量百分比計(jì)大于大約5%的液態(tài)水的蒸汽。
[0038]預(yù)定的沖洗溶劑可以是使清潔系統(tǒng)100如本文所述起作用的任何合適的溶劑。合適的沖洗溶劑包括但不限于乙醇、乳酸乙酯以及它們的組合。
[0039]圖2是可以在清潔系統(tǒng)100中使用的清潔頭200的透視圖，圖3是清潔頭200的透視側(cè)視圖，和圖4是清潔頭200的透視頂視圖。在示例性執(zhí)行中，清潔頭200包括清潔噴嘴220和至少一個(gè)沖洗噴嘴240。例如，清潔頭200包括噴嘴242、244、246、248、250和252。在示例性執(zhí)行中，清潔噴嘴220與清潔頭200的中心線230基本上同軸對齊，并且沖洗噴嘴242、244、246、248、250和252相對于中心線230圍繞清潔噴嘴220沿圓周間隔開。更具體地，清潔頭200包括連接到?jīng)_洗噴嘴240的導(dǎo)向件232，以便沖洗噴嘴240基本上與清潔噴嘴220軸向?qū)R。雖然示出包括六個(gè)沖洗噴嘴240，但清潔頭200可包括使清潔頭200如本文所述起作用的任何合適數(shù)量的沖洗噴嘴240。
[0040]在操作期間，清潔噴嘴220以足以從被污染的表面234去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流222朝向被污染的表面234。如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解的，足以從被污染的表面去除污染物的壓力取決于特定的清潔操作。因此，在一些執(zhí)行中，該清潔射流壓力可以是但不限于約30psi至約500psi。清潔噴嘴220配置為經(jīng)由第一軟管110從清潔流體源120 (圖1中示出)接收清潔流體。因此，清潔射流222包括以重量計(jì)至少大約40%的干蒸汽，其余部分是清潔溶液。
[0041]與清潔射流222同時(shí)，沖洗噴嘴240引導(dǎo)沖洗射流260到被污染的表面234，以從其去除清潔流體和污染物。此外，沖洗噴嘴240圍繞清潔噴嘴220布置以便從其引導(dǎo)的沖洗射流260基本上使清潔射流222與周圍環(huán)境隔離。更具體地，在示例性執(zhí)行中，噴嘴242弓I導(dǎo)沖洗射流262朝向被污染的表面234，沖洗噴嘴244弓丨導(dǎo)沖洗射流264朝向被污染的表面234，沖洗噴嘴246引導(dǎo)沖洗射流266朝向被污染的表面234，沖洗噴嘴248引導(dǎo)沖洗射流268朝向被污染的表面234，沖洗噴嘴250引導(dǎo)沖洗射流270朝向被污染的表面234，以及沖洗噴嘴252引導(dǎo)沖洗射流272朝向被污染的表面234。因此，沖洗射流262、264、266、268、270和272相互重疊并且基本上外接于清潔射流222，以便隨著清潔射流222從清潔噴嘴220被弓I導(dǎo)到被污染的表面234，包括在清潔流體和清潔射流222中的至少一種預(yù)定的清潔化學(xué)品不以空氣傳播污染周圍環(huán)境。
[0042]此外，以足以使清潔射流222與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)沖洗射流260朝向被污染的表面234。在示例性執(zhí)行中，足以隔離清潔射流222的壓力可以是等于或大于清潔射流壓力的任何合適的壓力。沖洗噴嘴240配置為經(jīng)由第二軟管112從沖洗流體源140(圖1中示出)接收沖洗流體。因此，在一個(gè)執(zhí)行中，清潔射流222包括以重量計(jì)至少大約85%的濕蒸汽，其余部分是沖洗溶液。在另一個(gè)執(zhí)行中，清潔射流222包括以重量計(jì)大約100%的濕蒸汽。
[0043]圖5是清潔被污染的表面234的示例性方法300的流程圖。在操作期間，方法300可與清潔系統(tǒng)100 —起使用以清潔被污染的表面234。在示例性執(zhí)行中，用包括蒸汽生成單元104(圖1中示出)和清潔流體注射單元106(圖1中示出)的清潔流體源120(圖1中示出)生成清潔流體302。用包括蒸汽生成單元104和沖洗流體注射單元108(圖1中示出)的沖洗流體源140(圖1中示出)生成沖洗流體304。
[0044]方法300也包括，從清潔流體源120引導(dǎo)306清潔射流222 (圖3中示出)到被污染的表面234(圖3中示出)以從其去除污染物，并且從沖洗流體源140引導(dǎo)308沖洗射流260(圖4中示出)到被污染的表面234以促進(jìn)從其去除清潔流體。在一個(gè)執(zhí)行中，在清潔射流222之前啟動(dòng)沖洗流體260，以促進(jìn)減少由包含在清潔流體內(nèi)的預(yù)定的清潔化學(xué)品造成的空氣傳播污染。更具體地，在示例性執(zhí)行中，以足以從被污染的表面234去除污染物的壓力引導(dǎo)306清潔射流222，并且以足以使清潔射流222與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)308沖洗射流260。此外，沖洗噴嘴240 (圖2中示出)圍繞清潔噴嘴220 (圖2中示出)布置以便沖洗射流260基本上外接于清潔射流222。在示例性執(zhí)行中，將清潔射流222和沖洗射流260以連續(xù)流同時(shí)引導(dǎo)310朝向被污染的表面234。因此，隨著清潔射流222從清潔噴嘴220被引導(dǎo)306到被污染的表面234，包括在清潔流體中的預(yù)定的清潔化學(xué)品基本上與環(huán)境隔離。
[0045]在已經(jīng)清潔被污染的表面234之后，停用312清潔噴嘴220，并且然后停用314沖洗噴嘴240。在示例性執(zhí)行中，在停用314沖洗噴嘴240之前停用312清潔噴嘴220促進(jìn)減少由清潔射流222引起的表面234的再次污染。
[0046]實(shí)施例
[0047]提供以下非限制性模擬以進(jìn)一步闡述本公開。
[0048]使用本公開的執(zhí)行進(jìn)行被污染的表面的清潔/剝離和沖洗。該測試在2024-T3包鋁基板上進(jìn)行，所述基板具有施加在其上的Spraylat? ZR-5852的I毫米厚的臨時(shí)保護(hù)涂層(TPC) ( “Spraylat” 是紐約 Pelham 的 Spraylat Corporation 的注冊商標(biāo))。將 TPC 以
3.5英寸X 14.5英寸的面積施加到鋁基板上，等于50.75平方英寸的被污染的表面。
[0049]使用的清潔流體是在蒸汽鍋爐中轉(zhuǎn)換成其氣相的具有Ammonia-D?的
Windex(R) ( “Windex”和“Ammonia-D”是威斯康星州 Racine 的 S.C.Johnson&Son, Inc.的
注冊商標(biāo))，而使用的沖洗流體是蒸汽和水。使用一個(gè)清潔噴嘴和一個(gè)沖洗噴嘴，并且使用的蒸汽處于大約40磅每平方英寸(psi)的壓力下。
[0050]本文所述的清潔設(shè)備以大約0.85英寸/秒的速率從鋁基板去除TPC。因此，在大約60秒內(nèi)從鋁基板去除TPC。此外，在蒸汽生成單元中使用200ml的水，并且在清潔/剝離期間使用200ml的具有Ammonia-D?的Windex?，僅生成IOOml的化學(xué)品廢物。
[0051]本文所述的清潔設(shè)備同時(shí)清潔/剝離和沖洗被污染的表面，同時(shí)促進(jìn)防止空氣傳播的污染并且促進(jìn)減少由清潔/剝離過程生成的化學(xué)品廢物的量。更具體地，該清潔設(shè)備使用清潔射流以從被污染的表面去除污染物，并且使用至少一個(gè)沖洗射流以從被污染的表面去除清潔流體和污染物。一般地，為促進(jìn)從被污染的表面去除污染物，清潔化學(xué)品必須包括在清潔射流中。這種清潔化學(xué)品是昂貴的并且可能對環(huán)境有害。因此，該清潔流體包括蒸汽和清潔化學(xué)品的混合物以促進(jìn)減少清潔被污染的表面所需的清潔化學(xué)品的量。此外，隨著清潔射流被從清潔噴嘴引導(dǎo)朝向被污染的表面，本文所述的沖洗射流配置為使清潔射流和包含在其中的化學(xué)品基本上與環(huán)境隔離。因此，本文所述的清潔設(shè)備促進(jìn)減少與清潔被污染的表面相關(guān)的成本，并且促進(jìn)保護(hù)環(huán)境免受化學(xué)品廢物的影響。
[0052]該書寫的描述使用實(shí)施例來公開本發(fā)明，其包括最佳模式，并且也使本領(lǐng)域任何技術(shù)人員能夠?qū)嵺`本發(fā)明，其包括制造和使用任何裝置或系統(tǒng)，并且進(jìn)行任何結(jié)合的方法。本發(fā)明可授予專利的范圍由權(quán)利要求限定，并且可包括本領(lǐng)域技術(shù)人員想到的其它例子。如果這種其它實(shí)施例具有并非不同于權(quán)利要求的文字語言的結(jié)構(gòu)元件，或如果這種其它實(shí)施例包括與權(quán)利要求的文字語言無實(shí)質(zhì)差異的等效結(jié)構(gòu)元件，則它們意欲在權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.清潔設(shè)備，其包括: 第一噴嘴(220)，其配置為以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流(222)朝向被污染的表面；以及 圍繞所述第一噴嘴(220)沿圓周間隔開的多個(gè)第二噴嘴(240、242、244、246、248、250和252)，以便所述多個(gè)第二噴嘴(242、244、246、248、250和252)以足以使所述清潔射流(222)與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)沖洗射流(260)朝向所述被污染的表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其中所述至少一個(gè)第二噴嘴配置為以等于或大于所述清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)所述沖洗射流。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其中所述第一噴嘴(220)配置為引導(dǎo)包括干蒸汽和至少一種清潔化學(xué)品的所述清潔射流(222)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔設(shè)備，其中所述第一噴嘴(220)配置為引導(dǎo)包括以重量計(jì)至少40%的干蒸汽的所述清潔射流(222)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其中所述至少一個(gè)第二噴嘴(240)配置為引導(dǎo)包括濕蒸汽和濕蒸汽與至少一種溶劑的組合中的至少一個(gè)的所述沖洗射流(260)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔設(shè)備，其中所述至少一個(gè)第二噴嘴(240)配置為引導(dǎo)包括以重量計(jì)至少85%的濕蒸汽的所述沖洗射流(260)。
7.清潔系統(tǒng),其包括: 殼體(102)，其包括容納在其中的清潔流體源和沖洗流體源；以及 清潔頭(200)，其連接到所述殼體(102)，所述清潔頭(200)包括:` 第一噴嘴(220)，其配置為以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)清潔射流(222)朝向被污染的表面；以及 至少一個(gè)第二噴嘴(240)，其配置為引導(dǎo)沖洗射流(260)朝向所述被污染的表面以從其去除清潔流體，其中以足以使所述清潔射流(222)與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)所述沖洗射流(260)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)第二噴嘴配置為以等于或大于所述清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)所述沖洗射流。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，進(jìn)一步包括流體連通連接所述清潔頭與所述殼體(102)的至少一個(gè)軟管(110)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔系統(tǒng)，其中所述清潔流體源(106)包括蒸汽生成單元(104)和清潔流體注射單元(106)，并且其中所述沖洗流體源(140)包括所述蒸汽生成單元(104)和沖洗流體注射單元(108)。
11.清潔被污染的表面的方法，所述方法包括: 用第一噴嘴引導(dǎo)清潔射流(222)朝向被污染的表面，以足以從表面去除污染物的壓力引導(dǎo)所述清潔射流(222)[方框306]； 用至少一個(gè)第二噴嘴引導(dǎo)沖洗射流朝向被污染的表面以從其去除清潔流體，以足以使所述清潔射流與周圍環(huán)境隔離的壓力引導(dǎo)所述沖洗射流；以及 引導(dǎo)所述沖洗射流(260)進(jìn)一步包括引導(dǎo)多個(gè)沖洗射流(260、262、264、266、268、270和272)朝向所述被污染的表面以便所述多個(gè)沖洗射流基本上外接于所述清潔射流(220)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中引導(dǎo)沖洗射流進(jìn)一步包括以等于或大于所述清潔射流壓力之一的壓力引導(dǎo)所述沖洗射流。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，進(jìn)一步包括: 用包括蒸汽生成單元(104)和清潔流體注射單元(106)的清潔流體源(120)生成清潔流體[方框302];以及 用包括蒸汽生成單元(104)和沖洗流體注射單元(108)的沖洗流體源(140)生成沖洗流體[方框304]。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中生成清潔流體進(jìn)一步包括結(jié)合來自所述清潔流體注射單元(106)的至少一種預(yù)定的清潔化學(xué)品與來自所述蒸汽生成單元(104)的干蒸汽。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中生成沖洗流體進(jìn)一步包括以下至少一個(gè): 用所述蒸汽生成單元(104)生成濕蒸汽；以及 結(jié)合來自所述沖洗流體注射單元(108)的至少一種溶劑與來自所述蒸汽生成單元的濕蒸汽?！?br>
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK103706583SQ201310459873
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年9月30日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月3日
【發(fā)明者】S·G·頗諾馬瑞 申請人:波音公司