專利名稱：一種納米水基清洗劑及其制備方法
技術領域：
本發(fā)明涉及工業(yè)清洗劑技術領域，是對現有技術的改進，具體涉及一種納米水基清洗劑。
背景技術：
工業(yè)清洗劑是現代工業(yè)必不可少的材料之一，隨著我國工業(yè)的快速發(fā)展和人們對環(huán)保問題的日益重視，綠色環(huán)保的清洗劑已經成為工業(yè)清洗劑發(fā)展的必然趨勢。水基清洗劑作為一種以水為主要溶劑、不含破壞大氣臭氧層物質、不易燃、不易爆的新型清洗劑，受到越來越多的關注和重視。但現有的水基清洗劑常存在適用范圍窄、清洗 過程中泡沫過多、腐蝕被清洗物件、含有對人體或環(huán)境造成傷害的揮發(fā)性有機溶劑、制備方法復雜等問題。CN 101538512 B專利中公開了一種水基清洗劑，由表面活性劑主洗部分、堿性助洗部分、溶劑部分、防腐劑和水配制而成。但該發(fā)明僅用于除去機械設備、建筑物等表面油月旨、油污、碳跡、染料、霉斑等污物，且清洗過程中產生較多泡沫，另外其選用的乙醇、乙二醇醚對人體有傷害作用。CN 101503648 B專利中公開了一種SMT印刷網版的水基清洗劑，含有5 35wt%的主溶劑、f 10wt%的助溶劑、O. 05、. 5wt%的表面活性劑、余量為去離子水。但該發(fā)明適用范
圍窄，且乙二醇、丙二醇等對人體有一定的傷害作用。CN 102230182 A專利中公開了一種水基清洗劑，包括以下質量百分比組份廣3%三聚磷酸鈉、2 4%磷酸氫二鈉、O. 5 1%硼砂、2 4%對硝基苯甲酸、O. 5 2%氫氧化鈉、I 4%表面活性劑、2飛聚乙二醇，13 15%三乙醇胺、O. 0Γ0. 1%消泡劑、余量為水。但該發(fā)明僅適用于清洗機件上的油污，且所選用的對硝基苯甲酸對水體和大氣可造成污染、且受熱分解放出有毒的氮氧化物煙氣。CN 102051286 A專利中公開了一種松香型焊錫膏用水基清洗劑，包括以下質量百分比的原料15 40%的醇醚類有機溶劑、1 15%的皂化劑、O. Γ2%的表面活性劑、O. θΓθ. 5%的緩蝕劑、水為余量。但該發(fā)明應用范圍太窄，且所選用的醇醚類有機溶劑一則對人體有一定的傷害作用，二則含量過多有被引燃的潛在危險。CN 1162524 C專利中公開了一種印刷線路板用水基清洗劑組合物，組成為10 20%烷基酚聚氧乙烯醚、I 10%烷基酰二乙醇胺、3 8%烷基醇胺、5 10%烷基醇、O. Γθ. 5%絡合劑、0. 3^1. 0%消泡劑及余量去離子水。但該發(fā)明應用范圍太窄，且含有對人體有一定傷害作用的烷基醇，此外其制備過程中需要將原料在4(T60°C溫度下加熱溶解，較常溫溶解方法而已較為復雜且存在安全隱患。納米材料，因其具備小尺寸效應、表面效應、量子尺寸效應、宏觀量子隧道效應和介電限域效應，在化學反應性等許多物理和化學方面都顯示出特殊的性能，呈現出許多奇異的物理、化學性質。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是避免上述現有技術中的不足之處而提供的一種納米水基清洗劑，該納米水基清洗劑適用范圍廣、制備方法簡單、不含對人體或環(huán)境造成傷害的揮發(fā)性有機溶劑、清洗過程中泡沫少、不腐蝕被清洗物件。本發(fā)明的目的可通過下列的措施來實現
本發(fā)明納米水基清洗劑，其所含成分重量百分比(％)為
皂化劑2. (Γ18. 0%
表面活性劑5. (Γ30. 0%
緩蝕劑O. 05 O. 5%
納米消泡劑O. 05 O. 5%
水溶性納米二氧化硅O. 2^1. 0%
其余為去尚子水，各成分重量之和為100%。所述的皂化劑為碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、磷酸氫二鈉、五水偏硅酸鈉中的一種或幾種。其主要作用是促進油脂、污垢、助焊劑殘留、紅膠殘留、錫膏殘留等從被清洗物件表面的清除。
所述的表面活性劑為聚乙二醇400、聚乙二醇600、辛基酚聚氧乙烯醚、乙氧基類氟碳表面活性劑、聚氧乙烯醚磷酸酯、十二烷基磺酸鈉、十二烷基醚硫酸鈉、單硬脂酸甘油酯中的一種或多種。其主要作用是顯著降低表面張力，增強潤濕力、滲透力。所述的緩蝕劑為2-甲基咪唑、咪唑、三乙醇胺、巰基苯駢噻唑中的一種或幾種。其主要作用是防止被清洗物件腐蝕。所述的納米消泡劑為納米硅醚消泡劑、納米增效聚醚有機硅消泡劑中的一種或幾種。其主要作用是在水基清洗劑的制備和使用過程中，起到長時間抑泡和強有力消泡的作用。所述的水溶性納米二氧化硅，其主要作用是明顯改善水基清洗劑的開蓋效果，清洗劑不分層，尤其是抗沾污染性能大大提高，使被清洗物件用水基清洗劑清洗后可以不用水漂洗，減少清洗工序，節(jié)約成本。本發(fā)明納米水基清洗劑的制備方法，包括如下步驟(I)稱取去離子水，倒入反應釜中；(2)加入2 18%的皂化劑，攪拌至完全溶解；(3)再依次加入5. (Γ30. 0%的表面活性齊[J、0. 05、. 5%的緩蝕劑、O. 05、. 5%的納米消泡劑和O. 2^1. 0%的水溶性納米二氧化硅，攪拌至完全溶解，即得本發(fā)明納米水基清洗劑。本發(fā)明相比現有技術具有如下優(yōu)點一是適用范圍廣，不僅可用于印刷電路板上助焊劑、焊錫膏殘留的清洗，表面貼裝印刷網版上焊錫膏、紅膠殘留的清洗、絲網印刷網版上油墨殘留的清洗，而且適用于機械設備、建筑物等表面油脂、油污、碳跡、染料、霉斑等污物的清洗；二是清洗過程中泡沫少，且清洗后可以不用水漂洗，減少清洗工序，節(jié)約能源和降低成本；三是不含對人體或環(huán)境造成傷害的揮發(fā)性有機溶劑、且不腐蝕被清洗物件；四是制備方法簡單，無需進行加熱溶解，進一步節(jié)約能源。本發(fā)明實用，市場潛力大。
具體實施例方式實施例I :五水偏硅酸鈉18. 0%辛基酚聚氧乙烯醚12. 0%
聚氧乙烯醚磷酸酯5. 0%
三乙醇胺O. 5%
納米硅醚消泡劑O. 5%
水溶性納米二氧化硅I. 0%
去離子水63. 0%
實施例2 :氫氧化鈉2. 0%十二烷基磺酸鈉13. 0%
聚氧乙烯醚磷酸酯17. 0%
巰基苯駢噻唑O. 1%
納米硅醚消泡劑O. 5%
水溶性納米二氧化硅O. 6%
去離子水66. 8%
實施例3 :氫氧化鈉2. 0%
單硬脂酸甘油2. 0%
聚氧乙烯醚磷酸酯3. 0%
三乙醇胺O. 4%
2-甲基咪唑O. 1%
納米硅醚消泡劑O. 1%
水溶性納米二氧化硅O. 9%
去尚子水91. 5%
實施例4 :氫氧化鈉3. 0%
碳酸氫鈉5. 0%
十二烷基醚硫酸鈉5. 0%
聚氧乙烯醚磷酸酯7. 0%
三乙醇胺O. 4%
納米增效聚醚有機硅消泡劑O. 3%
水溶性納米二氧化硅O. 5%
去離子水78. 8%
表I為本發(fā)明實施例1-4的主要性能試驗結果對比數據。
權利要求
1.一種納米水基清洗劑，其所含成分重量百分比(％)為 皂化劑2. (Γ18. 0% 表面活性劑5. (Γ30. 0% 緩蝕劑O. 05 O. 5% 納米消泡劑O. 05 O. 5% 水溶性納米二氧化硅O. 2^1. 0% 其余為去尚子水，各成分重量之和為100%。
2.根據權利要求I所述的納米水基清洗劑，其特征在于所述的皂化劑為碳酸鈉、碳酸氫鈉、氫氧化鈉、三聚磷酸鈉、磷酸氫二鈉、五水偏硅酸鈉中的一種或幾種。
3.根據權利要求I所述的納米水基清洗劑，其特征在于所述的表面活性劑為聚乙二醇400、聚乙二醇600、辛基酚聚氧乙烯醚、乙氧基類氟碳表面活性劑、聚氧乙烯醚磷酸酯、十二烷基磺酸鈉、十二烷基醚硫酸鈉、單硬脂酸甘油酯中的一種或多種。
4.根據權利要求I所述的納米水基清洗劑，其特征在于所述的緩蝕劑為2-甲基咪唑、咪唑、三乙醇胺、巰基苯駢噻唑中的一種或幾種。
5.根據權利要求I所述的納米水基清洗劑，其特征在于所述的納米消泡劑為納米硅醚消泡劑、納米增效聚醚有機硅消泡劑中的一種或幾種。
6.根據權利要求I所述的納米水基清洗劑的制備方法，其特征在于，包括如下步驟(I)稱取去離子水，倒入反應釜中；(2)加入2 18%的皂化劑，攪拌至完全溶解；(3)再依次加入5. 0 30· 0%的表面活性劑、O. 05 O. 5%的緩蝕劑、O. 05 O. 5%的納米消泡劑和O. 2 I. 0%的水溶性納米二氧化硅，攪拌至完全溶解，即得本發(fā)明納米水基清洗劑。
全文摘要
本發(fā)明涉及工業(yè)清洗劑技術領域，是對現有技術的改進，具體涉及一種納米水基清洗劑及其制備方法，其重量百分比(%)為皂化劑2.0~18.0%、表面活性劑5.0~30.0%、緩蝕劑0.05~0.5%、納米消泡劑0.05~0.5%、水溶性納米二氧化硅0.2~1.0%、其余為去離子水，各成分重量之和為100%。本發(fā)明具有下述特點一是清洗過程中泡沫少，且清洗后可以不用水漂洗，減少清洗工序，節(jié)約能源和降低成本；二是不含揮發(fā)性有機溶劑、不腐蝕被清洗物件、應用范圍廣、制備時無需加熱溶解節(jié)約能源。本發(fā)明實用，市場潛力大。
文檔編號C11D10/02GK102816660SQ20121033317
公開日2012年12月12日 申請日期2012年9月11日 優(yōu)先權日2012年9月11日
發(fā)明者徐安蓮, 周新華, 鄧小安, 黃云波 申請人:廣東普賽特電子科技股份有限公司, 東莞市松山湖微電子材料研發(fā)中心