專利名稱：：單晶硅片水基清洗劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種硅片超聲波清洗劑，尤其是一種可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的單晶硅片水基清洗劑。
背景技術(shù)：
：硅片首先是將硅棒切割成片狀，經(jīng)過研磨、拋光、腐蝕等工序，以獲得平整光潔的表面，然后再經(jīng)過清洗、氧化、光刻、外延生長、固態(tài)擴散等復(fù)雜的加工過程，才能形成半導(dǎo)體材料。其中的清洗主要是去除切割過程中產(chǎn)生的沙粒、殘留的水溶性線切割懸浮液、金屬離子、指紋等，清洗效果將直接影響硅片的質(zhì)量，必需滿足除垢徹底、無腐蝕氧化、無殘留等技術(shù)要求。目前，還沒有專用于單晶硅片的超聲波清洗液，現(xiàn)有清洗劑存在著去垢能力差、清洗速度慢以及耐用性能不強的缺點，導(dǎo)致作業(yè)用清洗劑濃度高、用量大，直接提高了生產(chǎn)成本，同時換槽頻繁、次數(shù)多，增加了污水排放量，不利于環(huán)境保護。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述技術(shù)問題，提供一種可提高去垢能力、清洗速度以及耐用性能的單晶硅片水基清洗劑。本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種單晶硅片水基清洗劑，其特征在于是熒光黃色透明液體，有如下組分和重量百分配比表面活性劑20~40溶劑5~15PH調(diào)節(jié)劑1520光亮劑1020去離子水30~45。所述的表面活性劑為EMULAN乳化劑、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、垸醇酰胺中的一種或兩種。所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚為89個碳的伯醇或仲醇，乙氧基為810個，丙氧基為36。所述脂肪醇聚氧乙烯醚為814個碳的醇，乙氧基為36個。所述垸醇酰胺為1618個碳的月桂基或椰子油基。所述的溶劑為乙醇、萜烯、碳酸二甲脂中的一種或兩種。所述PH調(diào)節(jié)劑為單乙醇胺、碳酸鈉、硅酸鈉、乳酸中的一種或兩種。所述的光亮劑為甲基甘氨酸鉀、改性馬來酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物鈉的一種或兩種。本發(fā)明是利用表面活性劑的復(fù)配性能，提高了表面去污力及保持清潔度的持續(xù)性，同時可使硅片洗后無水痕，更加光亮，對于單晶硅片等物料具有良好的清潔效果，并且提高了清洗速度和耐用性能。配制濃度低、用料少，不僅降低了用戶的使用成本，還減少了污水排放，達到了節(jié)能減排的目的。具體實施例方式原料及重量百分比如下表面活性劑20~40%、溶劑5~15%、PH調(diào)節(jié)劑15~20%、光亮劑1020%、去離子水30~45%。所述的表面活性劑為EMULAN乳化劑(如M56，EMULANAA7400)、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、垸醇酰胺中的一種或兩種。其中脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚為89個碳的伯醇或仲醇，乙氧基為810個，丙氧基為36。脂肪醇聚氧乙烯醚為814個碳的醇，乙氧基為36個。烷醇酰胺為1618個碳的月桂基或椰子油基。所述的溶劑可以為乙醇、萜烯、碳酸二甲脂AK-100中的一種或兩種。所述調(diào)節(jié)劑可以是單乙醇胺、碳酸鈉、硅酸鈉、乳酸中的一種或兩種。所述的光亮劑為甲基甘氨酸鉀、改性馬來酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物鈉的一種或兩種。各原料可在重量范圍內(nèi)進行選擇，使重量之和為100%,配制產(chǎn)品的外觀為熒光黃色透明液體。適用本發(fā)明清洗工藝如下清洗產(chǎn)品切割后的單晶硅片。使用藥劑本發(fā)明實施例。使用濃度按3%配比，清洗槽約130升，實際使用量為4升。清洗時間300S使用溫度6065。C左右。在用量及其他清洗條件相同時，通過多次清洗，得出以下數(shù)據(jù)清洗劑原清洗劑本發(fā)明實施例<table>tableseeoriginaldocumentpage4</column></row><table>通過以上數(shù)據(jù)可以看出本發(fā)明的耐用性能與現(xiàn)有技術(shù)相比大大提高，單槽清洗片數(shù)提高了一倍以上。清洗后的殘液顏色加深，說明清洗液得到了充分的利用，清洗劑成本支出大幅下降。大大減少了換槽次數(shù)，污水排放量大幅減少，達到了節(jié)能減排的目的。溶坭力更強，可在短時間內(nèi)徹底清除硅片表面的鐵離子和各種雜質(zhì)，使硅片洗后無水痕，而且更加光亮。權(quán)利要求1.一種單晶硅片水基清洗劑，其特征在于是熒光黃色透明液體，有如下組分和重量百分配比表面活性劑20～40溶劑5～15PH調(diào)節(jié)劑15～20光亮劑10～20去離子水30～45。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述的表面活性劑為EMUL認乳化齊IJ、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、垸醇酰胺中的一種或兩種。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚為89個碳的伯醇或仲醇，乙氧基為810個，丙氧基為36。4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述脂肪醇聚氧乙烯醚為814個碳的醇，乙氧基為36個。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述烷醇酰胺為1618個碳的月桂基或椰子油基。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述的溶劑為乙醇、萜烯、碳酸二甲脂中的一種或兩種。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述PH調(diào)節(jié)劑為單乙醇胺、碳酸鈉、硅酸鈉、乳酸中的一種或兩種。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單晶硅片水基清洗劑，其特征在于所述的光亮劑為甲基甘氨酸鉀、改性馬來酸和丙烯酸聚合物、改性聚合物鈉的一種或兩種。全文摘要本發(fā)明公開一種單晶硅片水基清洗劑，其特征在于是熒光黃色透明液體，有如下組分和重量百分配比表面活性劑20～40、溶劑5～15、pH調(diào)節(jié)劑15～20、光亮劑10～20、去離子水30～45。是利用表面活性劑的復(fù)配性能，提高了表面去污力及保持清潔度的持續(xù)性，同時可使硅片洗后無水痕，更加光亮，對于單晶硅片等物料具有良好的清潔效果，并且提高了清洗速度和耐用性能。配制濃度低、用料少，不僅降低了用戶的使用成本，還減少了污水排放，達到了節(jié)能減排的目的。文檔編號C11D3/26GK101265439SQ200810011318公開日2008年9月17日申請日期2008年5月9日優(yōu)先權(quán)日2008年5月9日發(fā)明者張魁蘭申請人:大連三達奧克化學(xué)股份有限公司