專利名稱：一種具有捶打按摩功能的足浴盆的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種足浴盆。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的足浴盆一般都具有按摩功能，但是現(xiàn)有足浴盆一般采用轉(zhuǎn)動的按摩球來實現(xiàn)按摩功能，如專利號為201020504499. 7的實用新型專利所公開的足浴盆。其還存在的缺點(diǎn)在于轉(zhuǎn)動的按摩球的按摩作用較弱。目前還沒有一種可實現(xiàn)捶打按摩功能的足浴盆。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有足浴盆的上述不足，本實用新型提供一種具有捶打按摩功能、按摩作用更強(qiáng)的足浴盆。本實用新型解決其技術(shù)問題的技術(shù)方案是一種具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆體，所述的盆體的底面上設(shè)有下凹的凹腔；還包括一定位罩，所述的定位罩罩設(shè)于所述的凹腔上；還包括一按摩錘，所述的按摩捶包括頭部的按摩部和按摩部下方的桿部，所述按摩錘的桿部穿過所述的定位罩并軸向伸入伸入所述的凹腔內(nèi)；所述的凹腔內(nèi)有鐵芯，所述按摩捶的桿部與所述的鐵芯連接；所述的凹腔外設(shè)有電磁支架，所述的電磁支架上繞設(shè)有電磁線圈。進(jìn)一步，所述按摩捶的按摩部和所述的定位罩之間設(shè)有壓簧，所述的壓簧套在所述按摩捶的桿部外。進(jìn)一步，所述盆體底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔，所述上凹腔的直徑大于所述所述下凹腔的直徑，所述的鐵芯位于所述的下凹腔內(nèi)；所述的定位罩包括套于所述上凹腔內(nèi)的下凹口，所述下凹口的上端設(shè)有一圈定位邊，所述的定位邊環(huán)繞在所述上凹腔外并固接在所述盆體的底面上；所述按摩捶的按摩部及所述的壓簧位于所述定位罩的下凹口內(nèi)，所述壓簧的一端頂在所述按摩捶的按摩部的底面上，所述壓簧的另一端頂在所述下凹口的底面上。進(jìn)一步，所述定位罩的底面所述的鐵芯之間設(shè)有密封墊。進(jìn)一步，所述的鐵芯與所述按摩捶的桿部螺紋連接。進(jìn)一步，所述的定位邊通過螺釘固定在所述盆體的底面上。進(jìn)一步，所述鐵芯的外表面設(shè)有一層防腐層。本實用新型在使用時，電磁線圈通交流電后由電磁支架構(gòu)成磁路，鐵芯在磁場的作用下上下軸向運(yùn)動，從而形成捶打按摩效果，通過按摩捶的按摩部來實現(xiàn)按摩。本實用新型的有益效果在于可實現(xiàn)捶打按摩功能，按摩作用更強(qiáng)。
圖1是本實用新型的俯視圖。[0020]圖2是本實用新型的剖視圖。圖3是圖2中A部的局部方法圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。參照圖1、圖2、圖3，一種具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆體1，所述的盆體1 的底面上設(shè)有下凹的凹腔。本實施例中，所述盆體底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔2，所述上凹腔的直徑大于所述所述下凹腔2的直徑。還包括一定位罩，所述的定位罩罩設(shè)于所述的凹腔上。本實施例中，所述的定位罩包括套于所述上凹腔內(nèi)的下凹口 3，所述下凹口 3的上端設(shè)有一圈定位邊4，所述的定位邊4 環(huán)繞在所述上凹腔外并固接在所述盆體1的底面上，本實施例中所述的定位邊4通過螺釘固定在所述盆體1的底面上。還包括一按摩錘，所述的按摩捶包括頭部的按摩部5和按摩部下方的桿部6，所述按摩錘的桿部6穿過所述的定位罩并軸向伸入伸入所述的下凹腔2內(nèi)。本實施例中所述按摩捶的按摩部5位于所述定位罩的下凹口 3內(nèi)。所述的凹腔內(nèi)有鐵芯7，本實施例中鐵芯7位于下凹腔2內(nèi)，所述按摩捶的桿部6 與所述的鐵芯7連接，本實施例中所述的鐵芯7與所述按摩捶的桿部6螺紋連接，所述鐵芯 7的外表面設(shè)有一層防腐層。本實施例中所述定位罩的底面所述的鐵芯7之間設(shè)有密封墊 8，可達(dá)到密封作用，盡量阻止水進(jìn)入到盆體底部的凹腔內(nèi)。所述的凹腔外設(shè)有電磁支架9，所述的電磁支架9上繞設(shè)有電磁線圈。本實施例中，所述按摩捶的按摩部5和所述的定位罩之間設(shè)有壓簧10，所述的壓簧10套在所述按摩捶的桿部6外。具體的，壓簧10位于所述定位罩的下凹口 3內(nèi)，所述壓簧10的一端頂在所述按摩捶的按摩部5的底面上，所述壓簧10的另一端頂在所述下凹口 3的底面上。壓簧10使按摩捶的運(yùn)行更具有彈性且對按摩捶具有支撐作用。在使用時，電磁線圈通交流電后由電磁支架9構(gòu)成磁路，鐵芯7在磁場的作用下上下軸向運(yùn)動，從而形成捶打按摩效果，通過按摩捶的按摩部5來實現(xiàn)按摩。上述只是本實用新型的一個具體實施例，以其他結(jié)構(gòu)形式來實現(xiàn)本實用新型之原理的其他結(jié)構(gòu)形式均屬于本實用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆體，其特征在于所述的盆體的底面上設(shè)有下凹的凹腔；還包括一定位罩，所述的定位罩罩設(shè)于所述的凹腔上；還包括一按摩錘，所述的按摩捶包括頭部的按摩部和按摩部下方的桿部，所述按摩錘的桿部穿過所述的定位罩并軸向伸入所述的凹腔內(nèi)；所述的凹腔內(nèi)有鐵芯，所述按摩捶的桿部與所述的鐵芯連接；所述的凹腔外設(shè)有電磁支架，所述的電磁支架上繞設(shè)有電磁線圈。
2.如權(quán)利要求1所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述按摩捶的按摩部和所述的定位罩之間設(shè)有壓簧，所述的壓簧套在所述按摩捶的桿部外。
3.如權(quán)利要求2所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述盆體底面凹腔包括柱形的上凹腔和柱形的下凹腔，所述上凹腔的直徑大于所述下凹腔的直徑，所述的鐵芯位于所述的下凹腔內(nèi)；所述的定位罩包括套于所述上凹腔內(nèi)的下凹口，所述下凹口的上端設(shè)有一圈定位邊， 所述的定位邊環(huán)繞在所述上凹腔外并固接在所述盆體的底面上；所述按摩捶的按摩部及所述的壓簧位于所述定位罩的下凹口內(nèi)，所述壓簧的一端頂在所述按摩捶的按摩部的底面上，所述壓簧的另一端頂在所述下凹口的底面上。
4.如權(quán)利要求廣3之一所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述定位罩的底面所述的鐵芯之間設(shè)有密封墊。
5.如權(quán)利要求廣3之一所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述的鐵芯與所述按摩捶的桿部螺紋連接。
6.如權(quán)利要求3所述的具有捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述的定位邊通過螺釘固定在所述盆體的底面上。
7.如權(quán)利要求廣3之一所述的捶打按摩功能的足浴盆，其特征在于所述鐵芯的外表面設(shè)有一層防腐層。
專利摘要一種具有捶打按摩功能的足浴盆，包括盆體，盆體的底面上設(shè)有下凹的凹腔；還包括一定位罩，定位罩罩設(shè)于凹腔上；還包括一按摩錘，按摩捶包括頭部的按摩部和按摩部下方的桿部，按摩錘的桿部穿過定位罩并軸向伸入伸入凹腔內(nèi)；凹腔內(nèi)有鐵芯，按摩捶的桿部與鐵芯連接；凹腔外設(shè)有電磁支架，電磁支架上繞設(shè)有電磁線圈。本實用新型在使用時，電磁線圈通交流電后由電磁支架構(gòu)成磁路，鐵芯在磁場的作用下上下軸向運(yùn)動，從而形成捶打按摩效果，通過按摩捶的按摩部來實現(xiàn)按摩。本實用新型可實現(xiàn)捶打按摩功能，按摩作用更強(qiáng)。
文檔編號A61H39/04GK202314249SQ20112044949
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月15日
發(fā)明者葛軍 申請人:寧波美妙電器有限公司