專利名稱：上頜骨修復(fù)支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及在醫(yī)療臨床的上頜骨缺損修復(fù)手術(shù)中使用的植入結(jié)構(gòu)體物件，特
別是一種能夠符合大面積上頜骨缺損形態(tài)修復(fù)等要求的上頜骨修復(fù)支架。
背景技術(shù)：
由于先天發(fā)育問題、基因突變、腫瘤切除或創(chuàng)傷等原因，造成了上頜骨的缺損，同 時也影響了患者口腔內(nèi)部的基本功能，給患者的基本生活造成很大影響?，F(xiàn)有的醫(yī)療臨床 上一般利用微型鈦板和移植自體骨來進(jìn)行修復(fù)。但是此種方法在臨床上的應(yīng)用有較大局 限。首先它只適用于移植腓骨等皮質(zhì)骨，其次，微型鈦板為統(tǒng)一規(guī)格產(chǎn)品，一般只用于修復(fù) 骨折等創(chuàng)傷，并不能達(dá)到大面積上頜骨缺損形態(tài)及功能修復(fù)等要求，遠(yuǎn)遠(yuǎn)滿足不了臨床的 需求。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷或不足，提供一種能夠符合大面積上頜骨 缺損形態(tài)修復(fù)等要求的上頜骨修復(fù)支架。所述上頜骨修復(fù)支架兼具形態(tài)修復(fù)和功能修復(fù)的 作用，從而滿足患者的個性化需求。 本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下 上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體 的上沿依次分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結(jié)構(gòu)的連接區(qū)右側(cè)顴骨連接區(qū)，右側(cè)梨狀孔 連接區(qū)，左側(cè)梨狀孔連接區(qū)，和左側(cè)顴骨連接區(qū)；在所述右側(cè)梨狀孔連接區(qū)和左側(cè)梨狀孔連 接區(qū)之間是梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)；在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區(qū)；在所 述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區(qū)；所述上頜植骨區(qū)和上頜牙槽區(qū) 均帶有通孔陣列結(jié)構(gòu)。 所述上頜植骨區(qū)具有沿所述上頜骨形支架本體的下沿向后延伸出用于填充松質(zhì) 骨或粉狀骨的U型結(jié)構(gòu)。 所述上頜植骨區(qū)具有在所述上頜骨形支架本體的下沿上方位置向后延伸出的角 形結(jié)構(gòu)，所述角形結(jié)構(gòu)用于雙面固定植入的塊狀骨。 所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔直徑范圍為1. 0mm 5. 0mm，所述通孔陣列結(jié)構(gòu)中的 通孔直徑范圍為1. Omm 5. Omm。 所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔與沉孔的中心距范圍為1. Omm 5. Omm，所述通孔陣 列結(jié)構(gòu)中的通孔與通孔的中心距范圍為1. Omm 5. Omm。 所述上頜骨形支架本體采用永久性植入顱頜面骨修復(fù)的金屬或非金屬材料。 所述上頜骨形支架本體采用滿足13810標(biāo)準(zhǔn)的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，
或者采用滿足ISO或ASTM標(biāo)準(zhǔn)的六鋁七鈮鈦合金材料。 所述上頜骨修復(fù)支架的制造方法，其特征在于包括以下步驟 A.采集患者包括上頜骨區(qū)域的CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數(shù)據(jù)；
3[0014] B.利用所述DICOM格式的圖像數(shù)據(jù)結(jié)合三維重建軟件進(jìn)行三維重建，然后在重建 圖像的基礎(chǔ)上進(jìn)行上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)； C.所述上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)要求內(nèi)表面要和所重疊的骨面貼合，外表面要符合 修復(fù)所需的形態(tài)； D.將所述上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)完成的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為可加工數(shù)據(jù)，然后采用數(shù)控中
心或數(shù)控銑床進(jìn)行數(shù)字化加工，加工出上頜骨修復(fù)支架的雛形； E.對上頜骨修復(fù)支架進(jìn)行后期加工處理，其中包括打孔，打磨工序。 醫(yī)學(xué)中的CT全稱computed tomography, CT是一種功能齊全的病情探測儀器，它
是電子計(jì)算機(jī)X射線斷層掃描技術(shù)簡稱。 MRI是Magnetic Res薩e Iamging的簡稱，中文為磁共振成像。cad-Computer Aided Design的縮寫，即計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)。 DICOM是Digital Imaging and Communications in Medicine的英文縮寫，艮卩醫(yī) 學(xué)數(shù)字成像和通信標(biāo)準(zhǔn)。在DICOM標(biāo)準(zhǔn)中詳細(xì)定義了影像及其相關(guān)信息的組成格式和交換 方法，利用這個標(biāo)準(zhǔn)，人們可以在影像設(shè)備上建立一個接口來完成影像數(shù)據(jù)的輸入/輸出 工作。 本實(shí)用新型的技術(shù)效果如下 本實(shí)用新型的上頜骨修復(fù)支架能夠符合大面積上頜骨缺損形態(tài)修復(fù)，兼具形態(tài)修 復(fù)和功能修復(fù)的作用，從而滿足患者的個性化需求。 本實(shí)用新型的上頜骨修復(fù)支架，不僅具有個性化特點(diǎn)，而且兼具形態(tài)修復(fù)和功能 修復(fù)的作用。本實(shí)用新型的上頜骨修復(fù)支架主要針對于上頜骨的大面積缺損修復(fù)，為其提 供一種整體解決方案。修復(fù)支架整體形態(tài)和患者上頜形態(tài)相擬合，支架具有植骨槽，便于醫(yī) 生進(jìn)行自體骨的移植和種植牙等一系列的手術(shù)。
圖1是本實(shí)用新型上頜骨修復(fù)支架的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2是圖1的俯視圖。 圖3是本實(shí)用新型上頜骨修復(fù)支架的使用狀態(tài)圖。
附圖標(biāo)記列示如下 1-右側(cè)顴骨連接區(qū)，2-右側(cè)梨狀孔連接區(qū)，3-左側(cè)梨狀孔連接區(qū)，4-左側(cè)顴骨連 接區(qū)，5-上頜牙槽區(qū)，6-上頜植骨區(qū)，7-梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖(圖1-圖3)對本實(shí)用新型進(jìn)行說明。 圖1是本實(shí)用新型上頜骨修復(fù)支架的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖1的俯視圖。如圖1和 圖2所示，上頜骨修復(fù)支架，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體的上沿依次 分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結(jié)構(gòu)的連接區(qū)右側(cè)顴骨連接區(qū)l，右側(cè)梨狀孔連接區(qū)2， 左側(cè)梨狀孔連接區(qū)3，和左側(cè)顴骨連接區(qū)4 ;在所述右側(cè)梨狀孔連接區(qū)2和左側(cè)梨狀孔連接 區(qū)3之間是梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)7 ;在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區(qū)6 ;在
所述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區(qū)5 ;所述上頜植骨區(qū)6和上頜牙槽區(qū)5均帶有通孔陣列結(jié)構(gòu)。 所述上頜植骨區(qū)具有沿所述上頜骨形支架本體的下沿向后延伸出用于填充松質(zhì)
骨或粉狀骨的U型結(jié)構(gòu)；或者，所述上頜植骨區(qū)具有在所述上頜骨形支架本體的下沿上方
位置向后延伸出的角形結(jié)構(gòu)，所述角形結(jié)構(gòu)用于雙面固定植入的塊狀骨。 所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔直徑范圍為1.0mm 5.0mm，所述通孔陣列結(jié)構(gòu)中
的通孔直徑范圍為1. Omm 5. Omm。所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔與沉孔的中心距范圍為
1. Omm 5. Omm，所述通孔陣列結(jié)構(gòu)中的通孔與通孔的中心距范圍為1. Omm 5. Omm。所述
上頜骨形支架本體采用永久性植入顱頜面骨修復(fù)的金屬或非金屬材料。所述上頜骨形支架
本體采用滿足13810標(biāo)準(zhǔn)的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，或者采用滿足ISO或ASTM標(biāo)
準(zhǔn)的六鋁七鈮鈦合金材料。 所述上頜骨修復(fù)支架的制造方法，包括以下步驟 A.采集患者包括上頜骨區(qū)域的CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數(shù)據(jù)； B.利用所述DICOM格式的圖像數(shù)據(jù)結(jié)合三維重建軟件進(jìn)行三維重建，然后在重建 圖像的基礎(chǔ)上進(jìn)行上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)； C.所述上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)要求內(nèi)表面要和所重疊的骨面貼合，外表面要符合 修復(fù)所需的形態(tài)； D.將所述上頜骨修復(fù)支架的設(shè)計(jì)完成的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為可加工數(shù)據(jù)，然后采用數(shù)控中
心或數(shù)控銑床進(jìn)行數(shù)字化加工，加工出上頜骨修復(fù)支架的雛形； E.對上頜骨修復(fù)支架進(jìn)行后期加工處理，其中包括打孔，打磨工序。 圖3是本實(shí)用新型上頜骨修復(fù)支架的使用狀態(tài)圖。由此可見上頜骨修復(fù)支架安裝
在患者缺損部位的情形。 上頜骨修復(fù)支架中各部分的作用如下 1、右側(cè)顴骨連接區(qū)——帶有沉孔結(jié)構(gòu)，用于將修復(fù)支架與右側(cè)顴骨連接； 2、右側(cè)梨狀孔連接區(qū)——帶有沉孔結(jié)構(gòu)，用于將修復(fù)支架與右側(cè)梨狀孔殘留骨進(jìn)
行連接； 3、左側(cè)梨狀孔連接區(qū)——帶有沉孔結(jié)構(gòu)，用于將修復(fù)支架與右側(cè)梨狀孔殘留骨進(jìn) 行連接； 4、左側(cè)顴骨連接區(qū)——帶有沉孔結(jié)構(gòu)，用于將修復(fù)支架與左側(cè)顴骨連接； 5、上頜牙槽區(qū)——帶有通孔結(jié)構(gòu)，主要功能有兩個，一為支撐上頜區(qū)域軟組織，恢
復(fù)患者面部形態(tài)； 6、上頜植骨區(qū)——帶有通孔結(jié)構(gòu)，用于植骨，用于二期的種植牙。其形態(tài)可呈"倒 L"型結(jié)構(gòu)或角形結(jié)構(gòu)，也可呈"正U"型結(jié)構(gòu)，"倒L"型結(jié)構(gòu)一般用于固定植入的整塊腓骨， "正U"型結(jié)構(gòu)一般用于填充松質(zhì)骨或人工骨等粉狀骨。 7、梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)——與殘留梨狀孔結(jié)構(gòu)相適配，用于修復(fù)梨狀孔的整體形 態(tài)。 個性化的上頜骨修復(fù)支架可用如下材料制作加工 1、滿足13810標(biāo)準(zhǔn)的外科植入物用純鈦及鈦合金材料。 2、滿足ISO或ASTM標(biāo)準(zhǔn)的六鋁七鈮鈦合金材料。 3、單項(xiàng)鈦合金TLM和TLE等(目前西北有色金屬研究院正在申請加入外科植入物用鈦及鈦合金加工材國家標(biāo)準(zhǔn))。 4、其他可用于永久性植入顱頜面骨修復(fù)的金屬或非金屬材料。 個性化的上頜骨修復(fù)支架的加工流程 1、采集患者CT或MRI圖像，獲取DICOM格式的圖像數(shù)據(jù)。 2、利用相關(guān)三維重建軟件進(jìn)行三維重建，然后在重建圖像的基礎(chǔ)上進(jìn)行修復(fù)支架的設(shè)計(jì)。 3、設(shè)計(jì)特征包括內(nèi)表面要和所重疊的骨面密切貼合，外表面要符合修復(fù)所需的形態(tài)。 4、設(shè)計(jì)加工出雛形后，對修復(fù)支架進(jìn)行后期加工處理，其中包括打孔，打磨等工序。 應(yīng)當(dāng)指出，以上所述具體實(shí)施方式
可以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更全面地理解本發(fā)明創(chuàng)造，但不以任何方式限制本發(fā)明創(chuàng)造。因此，盡管本說明書參照附圖和實(shí)施例對本發(fā)明創(chuàng)造已進(jìn)行了詳細(xì)的說明，但是，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，仍然可以對本發(fā)明創(chuàng)造進(jìn)行修改或者等同替換；而一切不脫離本發(fā)明創(chuàng)造的精神和范圍的技術(shù)方案及其改進(jìn)，其均涵蓋在本發(fā)明創(chuàng)造專利的保護(hù)范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體的上沿依次分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結(jié)構(gòu)的連接區(qū)右側(cè)顴骨連接區(qū)，右側(cè)梨狀孔連接區(qū)，左側(cè)梨狀孔連接區(qū)，和左側(cè)顴骨連接區(qū)；在所述右側(cè)梨狀孔連接區(qū)和左側(cè)梨狀孔連接區(qū)之間是梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)；在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區(qū)；在所述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區(qū)；所述上頜植骨區(qū)和上頜牙槽區(qū)均帶有通孔陣列結(jié)構(gòu)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述上頜植骨區(qū)具有沿所述 上頜骨形支架本體的下沿向后延伸出用于填充松質(zhì)骨或粉狀骨的U型結(jié)構(gòu)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述上頜植骨區(qū)具有在所述 上頜骨形支架本體的下沿上方位置向后延伸出的角形結(jié)構(gòu)，所述角形結(jié)構(gòu)用于雙面固定植 入的塊狀骨。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔 直徑范圍為1. 0mm 5. Omm，所述通孔陣列結(jié)構(gòu)中的通孔直徑范圍為1. 0mm 5. 0mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述沉孔陣列結(jié)構(gòu)中的沉孔 與沉孔的中心距范圍為1. Omm 5. Omm，所述通孔陣列結(jié)構(gòu)中的通孔與通孔的中心距范圍 為1. Omm 5. Omm。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述上頜骨形支架本體采用 永久性植入顱頜面骨修復(fù)的金屬或非金屬材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，所述上頜骨形支架本體采用 滿足13810標(biāo)準(zhǔn)的外科植入物用純鈦或鈦合金材料，或者采用滿足ISO或ASTM標(biāo)準(zhǔn)的六鋁 七鈮鈦合金材料。
專利摘要一種能夠符合大面積上頜骨缺損形態(tài)修復(fù)等要求的上頜骨修復(fù)支架，其特征在于，包括上頜骨形支架本體，在所述上頜骨形支架本體的上沿依次分布四個凸起的均帶有沉孔陣列結(jié)構(gòu)的連接區(qū)右側(cè)顴骨連接區(qū)，右側(cè)梨狀孔連接區(qū)，左側(cè)梨狀孔連接區(qū)，和左側(cè)顴骨連接區(qū)；在所述右側(cè)梨狀孔連接區(qū)和左側(cè)梨狀孔連接區(qū)之間是梨狀孔形態(tài)修復(fù)區(qū)；在所述上頜骨形支架本體的下沿分布著上頜植骨區(qū)；在所述上頜骨形支架本體的上沿和下沿之間分布著上頜牙槽區(qū)；所述上頜植骨區(qū)和上頜牙槽區(qū)均帶有通孔陣列結(jié)構(gòu)。
文檔編號A61L27/06GK201481592SQ200920173289
公開日2010年5月26日 申請日期2009年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月27日
發(fā)明者劉燦, 姜謙, 歸來, 李曉峰, 武星 申請人:北京吉馬飛科技發(fā)展有限公司