一種具有控溫裝置的射頻等離子體種子處理設(shè)備的制作方法

本實(shí)用新型屬于種子處理設(shè)備領(lǐng)域，具體地，涉及一種具有控溫裝置的射頻等離子體種子處理設(shè)備。

背景技術(shù)：

冷等離子體是物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)，即物質(zhì)第四態(tài)，是一種能量更高的物質(zhì)聚集態(tài)，冷等離子體中含有大量的電子、離子、激發(fā)態(tài)的分子原子、自由基及紫外光等活性粒子，比通常的化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強(qiáng)，更易于和所接觸的材料表面發(fā)生反應(yīng)。

以色列Edward Bormashenko等人研究認(rèn)為，種子經(jīng)過射頻等離子體處理可以改變其表面性質(zhì)，使種子的表觀接觸角大幅度下降，表明種子的吸水性大幅度增加，尤其是潤(rùn)濕性。此外，經(jīng)過射頻等離子體處理可以改變氧氣和二氧化碳對(duì)種子的滲透率，直接影響種子的發(fā)芽情況，對(duì)提高產(chǎn)量和控制發(fā)芽速度具有潛在的作用。另外，經(jīng)過射頻等離子體處理還可以縮短育種周期，改良其相關(guān)性狀。

目前，國(guó)內(nèi)射頻等離子體種子處理設(shè)備大多數(shù)無(wú)法實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，部分設(shè)備采用傳送帶的輸送方式，意在實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，但該方式產(chǎn)生等離子體的過程溫度極易升高，易將種子烤熟，故在處理種子的時(shí)候需要經(jīng)常停機(jī)降溫。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)以上問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種控溫型射頻等離子體種子處理設(shè)備，從而可以實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，保證種子在處理過程中不受高溫的影響。

實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的采用的技術(shù)方案是：一種具有控溫裝置的射頻等離子種子處理設(shè)備，包括倉(cāng)室組合、傳送裝置、調(diào)壓裝置、射頻裝置、控溫裝置，倉(cāng)室組合包括進(jìn)料倉(cāng)1、進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2、分料器3、處理倉(cāng)6、出料電動(dòng)真空蝶閥12、出料倉(cāng)13、落料斗14；傳送裝置包括帶張緊裝置的帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4、驅(qū)動(dòng)電機(jī)15、主動(dòng)膠輥16、傳送帶17；調(diào)壓裝置包括處理倉(cāng)抽氣口7、電磁充氣閥8、真空波紋管9、真空泵10、第一氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)20、第二氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)21、電阻真空計(jì)22、電阻硅管29、驅(qū)動(dòng)電機(jī)接線口30、射頻電源接線口31、真空觀察窗32、處理倉(cāng)倉(cāng)門33、第一電磁閥34、第二電磁閥35；射頻裝置包括射頻匹配器18、射頻電源19、觸摸顯示屏23、上電極板24、上絕緣板25、下電極板26；控溫裝置包括空調(diào)壓縮機(jī)11、盤管27、溫度傳感器28。

優(yōu)選地，處理倉(cāng)6呈長(zhǎng)方體，其內(nèi)部設(shè)有可抽出式架板5；進(jìn)料倉(cāng)1位于處理倉(cāng)6的上部，通過進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2與處理倉(cāng)6連通；分料器3位于處理倉(cāng)6內(nèi)部，設(shè)置在進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2的正下方；出料倉(cāng)13位于處理倉(cāng)6的下部，出料電動(dòng)真空蝶閥12位于出料倉(cāng)13下方且與出料倉(cāng)連通；落料斗14位于處理倉(cāng)6內(nèi)部，設(shè)置在出料倉(cāng)13的正上方。

優(yōu)選地，驅(qū)動(dòng)電機(jī)15位于架板5的一側(cè)；主動(dòng)膠輥16通過軸承座固定于架板5上，與驅(qū)動(dòng)電機(jī)15之間通過鏈條連接；帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4通過張緊裝置連接到架板5上；傳送帶17纏繞在主動(dòng)膠輥16和帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4上。

優(yōu)選地，真空泵10位于種子處理設(shè)備的底部；電阻硅管29位于處理倉(cāng)6的內(nèi)部；電阻真空計(jì)22位于種子處理設(shè)備的前面板上，并與電阻硅管29連接。

優(yōu)選地，射頻電源19位于種子處理設(shè)備的頂部；射頻匹配器18位于射頻電源19的下方且位于處理倉(cāng)6的上方；射頻電源19與射頻匹配器18通過射頻連接線相連，由射頻匹配器18引出射頻連接線通入處理倉(cāng)6，連接上電極板24。

優(yōu)選地，溫度傳感器28位于處理倉(cāng)6內(nèi)部；空調(diào)壓縮機(jī)11位于種子處理設(shè)備的底部；盤管27盤繞在處理倉(cāng)6的內(nèi)部上表面，并通向處理倉(cāng)6外，用于連接空調(diào)壓縮機(jī)11。

本實(shí)用新型具有如下優(yōu)點(diǎn)：能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)作業(yè)，減少操作時(shí)間，降低工作氣體的使用量；應(yīng)用降溫裝置，溫度穩(wěn)定，避免工作時(shí)出現(xiàn)停機(jī)降溫，避免高溫使種子失活。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的一種具有溫控裝置的射頻等離子體種子處理設(shè)備的主視圖；

圖2是本實(shí)用新型的處理設(shè)備的處理倉(cāng)的結(jié)構(gòu)圖；

本實(shí)用新型的附圖標(biāo)記為，

1.進(jìn)料倉(cāng)，2.進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥，3.分料器，4.帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥，5.可抽出式架板，6.處理倉(cāng)，7.處理倉(cāng)抽氣口，8.電磁充氣閥，9.真空波紋管，10.真空泵，11.空調(diào)壓縮機(jī)，12.出料電動(dòng)真空蝶閥，13.出料倉(cāng)，14.落料斗，15.驅(qū)動(dòng)電機(jī)，16.主動(dòng)膠輥，17.傳送帶，18.射頻匹配器，19.射頻電源，20.第一氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)，21.第二氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)，22.電阻真空計(jì)，23.觸摸顯示屏，24.上電極板，25.上絕緣板，26.下電極板，27.盤管，28.溫度傳感器，29.電阻硅管，30.驅(qū)動(dòng)電機(jī)接線口，31.射頻電源接線口，32.真空觀察窗，33.處理倉(cāng)倉(cāng)門，34.第一電磁閥，35.第二電磁閥。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)施的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行更加詳細(xì)的描述。所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，旨在用于解釋本實(shí)用新型，而不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。

實(shí)用新型如附圖1和2所示，本實(shí)用新型的一種具有控溫裝置的射頻等離子體種子處理設(shè)備，包括倉(cāng)室組合、傳送裝置、調(diào)壓裝置、射頻裝置、控溫裝置。其中，

倉(cāng)室組合包括進(jìn)料倉(cāng)1、進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2、分料器3、處理倉(cāng)6、出料電動(dòng)真空蝶閥12、出料倉(cāng)13、落料斗14。處理倉(cāng)6呈長(zhǎng)方體，其內(nèi)部設(shè)有可抽出式架板5，倉(cāng)內(nèi)零部件置于架板5上。進(jìn)料倉(cāng)1位于處理倉(cāng)6的上部，通過進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2與處理倉(cāng)6連通。分料器3位于處理倉(cāng)6內(nèi)部，設(shè)置在進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2的正下方。出料倉(cāng)13位于處理倉(cāng)6的下部，出料電動(dòng)真空蝶閥12位于出料倉(cāng)13下方且與出料倉(cāng)連通。落料斗14位于處理倉(cāng)6內(nèi)部，設(shè)置在出料倉(cāng)13的正上方。

傳送裝置包括帶張緊裝置的帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4、驅(qū)動(dòng)電機(jī)15、主動(dòng)膠輥16、傳送帶17。驅(qū)動(dòng)電機(jī)15位于架板5的一側(cè)，主動(dòng)膠輥16通過軸承座固定于架板5上，與驅(qū)動(dòng)電機(jī)15之間通過鏈條連接。帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4通過張緊裝置連接到架板5上。傳送帶17纏繞在主動(dòng)膠輥16和帶張緊裝置的從動(dòng)膠輥4上。

調(diào)壓裝置包括處理倉(cāng)抽氣口7、電磁充氣閥8、真空波紋管9、真空泵10、第一氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)20、第二氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)21、電阻真空計(jì)22、電阻硅管29、驅(qū)動(dòng)電機(jī)接線口30、射頻電源接線口31、真空觀察窗32、處理倉(cāng)倉(cāng)門33、第一電磁閥34、第二電磁閥35。真空泵10位于種子處理設(shè)備的底部。電阻硅管29位于處理倉(cāng)6的內(nèi)部。電阻真空計(jì)22位于種子處理設(shè)備的前面板上，并與電阻硅管29連接。

射頻裝置包括射頻匹配器18、射頻電源19、觸摸顯示屏23、上電極板24、上絕緣板25、下電極板26。射頻電源19位于種子處理設(shè)備的頂部。射頻匹配器18位于射頻電源19的下方且位于處理倉(cāng)6的上方。射頻電源19與射頻匹配器18通過射頻連接線相連，由射頻匹配器18引出射頻連接線通入處理倉(cāng)6，連接上電極板24。

控溫裝置包括空調(diào)壓縮機(jī)11、盤管27、溫度傳感器28。溫度傳感器28位于處理倉(cāng)6內(nèi)部?？照{(diào)壓縮機(jī)11位于種子處理設(shè)備的底部。盤管27盤繞在處理倉(cāng)6的內(nèi)部上表面，并通向處理倉(cāng)6外，用于連接空調(diào)壓縮機(jī)11。

實(shí)用新型

本處理設(shè)備的真空處理工作過程如下。打開真空泵10對(duì)進(jìn)行抽真空處理，外部空氣通過第一電磁閥34和第一氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)20調(diào)節(jié)，充入處理倉(cāng)6內(nèi)，通過電阻真空計(jì)22的檢測(cè)，使處理倉(cāng)6內(nèi)真空度穩(wěn)定在60Pa；然后工作氣體通過第二電磁閥35和第二氣體轉(zhuǎn)子流量計(jì)21調(diào)節(jié)，充入處理倉(cāng)6內(nèi)，使處理倉(cāng)6內(nèi)真空度穩(wěn)定在130～160pa。

本處理設(shè)備的等離子體產(chǎn)生工作過程如下。待處理倉(cāng)6的真空度穩(wěn)定后，即可開啟射頻電源匹配器18和射頻電源19，使上電極板24和下電極板26之間產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象，生成等離子體。

本處理設(shè)備的進(jìn)料工作過程如下。待處理的種子置于進(jìn)料倉(cāng)1內(nèi)，通過調(diào)節(jié)進(jìn)料電動(dòng)真空蝶閥2控制種子的流量，經(jīng)過分料器3將種子均勻的鋪在傳送帶17上。

本處理設(shè)備的傳送工作過程如下。通過打開驅(qū)動(dòng)電機(jī)15驅(qū)動(dòng)主動(dòng)膠輥16轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)傳送帶17傳送，將傳送帶17上的種子送入上電極板24和下電極板26間進(jìn)行處理；通過調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)電機(jī)15的轉(zhuǎn)速以調(diào)節(jié)傳送帶17的速度，從而調(diào)節(jié)種子經(jīng)過上電極板24和下電極板26的時(shí)間，即調(diào)節(jié)種子處理時(shí)間。

本處理設(shè)備的出料工作過程如下。處理后的種子經(jīng)落料斗14進(jìn)入出料倉(cāng)13，待所有種子處理完畢后，打開電磁充氣閥8平衡倉(cāng)內(nèi)外的壓力，然后打開出料電動(dòng)真空蝶閥12放出所有處理完畢的種子。

本處理設(shè)備的控溫工作過程如下。

實(shí)用新型當(dāng)溫度傳感器28檢測(cè)到溫度高于設(shè)定范圍值時(shí)，打開空調(diào)壓縮機(jī)11，通過盤繞在處理倉(cāng)6內(nèi)部的盤管27將處理倉(cāng)6內(nèi)部的熱量帶走以降低溫度，當(dāng)溫度低于范圍值時(shí)，控制系統(tǒng)會(huì)將空調(diào)壓縮機(jī)11關(guān)閉。

本處理設(shè)備采用真空射頻方式產(chǎn)生等離子體，由于真空狀態(tài)下有吸附作用，使得種子接觸的射頻等離子體更充分。

最后需要指出的是：以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制。盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。